ULTRA 激光掩模光刻机

简介

ULTRA半导体光掩模光刻机适用于成熟半导体光掩模的制造，支持多种基板尺寸和定制化需求。其具备低失真紫外光学元件、355nm高功率激光器及自动对焦系统等特性，并支持实时数据压缩与自动化处理功能，同时提供灵活的硬件扩展能力。该设备兼容多种输入格式，具备高精度的对准和边缘检测功能，确保了高效准确的光掩模生产。

产品概述：

ULTRA半导体光掩模光刻机是门用于成熟半导体光掩模的合格激光掩模机。半导体光掩模用于制造电子设备，包括微控制器、电源管理、LED、物联网 （IoT） 和 MEMS。

技术数据

ULTRA 激光掩模光刻机信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于ULTRA 激光掩模光刻机报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。