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ACE i300为高密度等离子体去胶机,主要用于8/12英寸光刻胶干法刻蚀。采用高功率等离子体源系统,具有高去胶速率、高均匀性、低等离子体损伤、低缺陷等性能优势,适用离子注入后去胶、刻蚀后去胶以及表面
| 产地与供应商:国产 生产商 |