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应用于双大马士革和晶圆级封装
盛美上海的无应力抛光技术(Stress-Free-polish)基于电化学反应原理,提供一种无机械应力去除金属铜层及阻挡层的技术解决方案
工艺过程低应力
低耗材成本COC和运营成本COO
低排放可保护环境
整合了无应力抛光、化学机械研磨、湿法刻蚀、干法刻蚀工艺
电抛光液和湿法刻蚀液可实时循环使用
减少化学和耗材使用量
设备尺寸(mm):4100(长)*2600(宽)*2650(高)
无应力抛光设备信息由盛美半导体设备(上海)股份有限公司为您提供,如您想了解更多关于无应力抛光设备报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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