IoN系列等离子清洗去胶系统

简介

PVA TePla公司推出的IoN系列等离子系统提供多种射频电源选项和腔体配置，以满足不同客户的工艺需求。该系列产品包括IoN 10Q、IoN 100-40Q、IoN单片晶圆去胶机、IoN 200和IoN 40，分别适用于批量处理不同尺寸（最大200毫米）的晶圆或基板，并具备去胶、清除残胶、表面改性及等离子增强化学气相沉积等功能，适用于实验室及量产环境。

IoN系列等离子系统具有多种射频电源选项，可满足客户的特定工艺和产量要求。 我们提供不同腔体和电配置，大腔体可达 1200 升。

PVA TePla 的 IoN 10Q 是一款桌式全功能射频等离子机，可用于批量晶圆去胶和清除残胶，为实验室和量产使用而设计，多可处理 25片晶圆，晶圆大尺寸为 150 毫米。

PVA TePla的IoN 100-40Q是一款功能齐全的射频等离子机，可用于批量晶圆去胶和清除残胶，为实验室和量产使用而设计，多可处理50片晶圆，晶圆大尺寸为200毫米。

PVA TePla 的 IoN 单片晶圆去胶机是一款功能齐全的先进射频等离子机，可用于单片晶圆去胶和清除残胶，为实验室和量产使用而设计，可处理大的晶圆为200毫米。

PVA TePla 的 IoN 200 是一款功能齐全的射频等离子机 ，可用于表面改性，设计用于实验室和处理大型基板或大批量生产。 该机台还为等离子增强化学气相沉积应用提供了对应的功能。

PVA TePla 的 IoN 40 是一款功能齐全的桌式先进射频等离子机，可用于表面改性，为实验室和量产使用而设计，适用于处理较小的基板或中小产量。该机台还为等离子增强化学气相沉积应用提供了对应的功能。

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