条形等离子系统 80 Plus

80 Plus 等离子系统专为半导体加工而开发，可支持手动及自动操作，两种操作方式均简单易用。该系统可以配备或不配备装卸站；此外，每个装卸站都可支持不同的配置。即便没有装卸站，也可将其集成到生产线中。

该软件直观，满足当前半导体行业的标准，其主要应用领域是表面的活化和清洁。80 Plus系统操作十分高效，加上其等离子技术，使用它进行等离子处理只需几秒即可完成。

80 Plus的晶圆表面清洁功能是其独特之处。通过使用该系统进行等离子处理，可以快速有效地清除晶圆表面的杂质和污染物。这有助于提高晶圆的质量和性能，并确保生产过程中的稳定性和一致性。

另外，80 Plus系统还具有智能控制功能，可根据实际需要进行参数调整。这使得用户可以根据不同的加工要求来优化处理过程，并获得最佳的加工效果。

除了晶圆表面清洁功能外，80 Plus系统还可以用于其他应用领域。例如，在光伏行业中，它可以用于太阳能电池片的制造过程中，提高电池片的效率和稳定性。

PVA TePla 提供研发和合同代加工的广泛应用服务。 许多客户利用这些服务进行临床试验和中小型生产。 联系我们测试示范或提供报价。

80 Plus 等离子系统提供两种电极配置

离子配置

射频为 13.56 MHz 的电磁辐射通过电极被送入腔室，以便通过加速离子实现表面轰击。除了这种物理效应，还有一种化学效应，但它比使用微波频率时获得的效果要小。

千兆配置

如果等离子设备配备微波发生器，则使用 2.45 GHz 的频率。腔室中没有电极；微波在真空室外部产生，然后通过天线或波导输入。具有这种配置的等离子体以纯化学方式工作。

等离子系统 80 PLUS

等离子系统 80 Plus 易于操作，在手动和自动模式下具有相同的侧面装载和卸载功能。System 软件符合半导体行业的标准。由于加工时间非常短，该系统可以集成到全自动装配线中。

80 Plus 有两种配置：
配置“IoN”：
通过电极将 13.56 MHz 的射频施加到真空室中，以便通过离子轰击进行物理表面处理。
或：
配置 “GIGA”：
将 2.45 GHz 的微波施加在真空室顶部，产生大量延伸的等离子体，产生自由基。由于使用了微波，80 Plus GIGA 实现了快速、低温和无损伤的化学表面处理。

技术规格：

等离子室：

• 铝

• 内部尺寸 330 x 370 毫米

血浆生成：

微波

• MW 频率 2.45 GHz

• 最大 1000 瓦

• 可变功率

射频

• 最大 13.56 MHz：1000 瓦

• 可变功率

选项：

• 附加气体通道 3-4

• 真空泵系统

相关应用：

• 倒装芯片底部填充

• 焊盘清洁

• 封装

• 条带系统

条形等离子系统 80 Plus信息由PVA TePla中国为您提供，如您想了解更多关于条形等离子系统 80 Plus报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。