IoN系列等离子系统

IoN系列等离子系统

IoN 系列等离子机具有多种射频电源选项，可满足客户的特定工艺和产量要求。 我们提供不同腔体和电极配置，最大腔体可达 1200 升。

IoN系列等离子系统是一种高效的工艺设备，能够满足客户在特定工艺和产量方面的需求。该系列设备具备多种射频电源选项，能够灵活应对不同的工艺要求。不仅如此，我们还提供多种腔体和电极配置选择，其中最大腔体可容纳1200升的处理物料。

作为晶圆清洗去胶领域的专家，我们提供了无损晶圆清洗去胶系统。这款设备采用了射频等离子扫胶技术，能够高效、彻底地去除晶圆上的胶体杂质。同时，我们还开发了射频等离子清洗机，它能够将晶圆置于等离子环境中进行全面清洗，确保晶圆表面的无尘无杂质。此外，我们还推出了等离子射频去胶机，这款设备能够通过等离子技术将胶体杂质快速有效地去除，为客户提供高品质的清洁解决方案。

无论是晶圆清洗去胶系统还是射频等离子扫胶机、射频等离子清洗机，我们始终致力于为客户提供卓越的产品质量和优质的服务体验。我们的产品具备先进的技术和稳定的性能，能够满足客户对于清洗去胶的各种需求。我们将继续不断创新，不断提升产品性能，为客户提供更好的晶圆清洗去胶解决方案。

PVA TePla 的 IoN 10Q 是一款桌式全功能射频等离子机，可用于批量晶圆去胶和清除残胶，专为实验室和量产使用而设计，最多可处理 25片晶圆，晶圆最大尺寸为 150 毫米。

IoN 10Q 晶圆批量去胶和清除残胶

PVA TePla的IoN 100-40Qshi一款功能齐全的射频等离子机，可用于批量晶圆去胶和清除残胶，专为实验室和量产使用而设计，最多可处理50片晶圆，晶圆最大尺寸为200毫米。

IoN 100-40Q晶圆去胶和清除残胶

PVA TePla 的 IoN 单片晶圆去胶机是一款功能齐全的先进射频等离子机，可用于单片晶圆去胶和清除残胶，专为实验室和量产使用而设计，可处理最大的晶圆为200毫米。

IoN 单片晶圆去胶和清除残胶

PVA TePla 的 IoN 200 是一款功能齐全的射频等离子机 ，可用于表面改性，设计用于实验室和处理大型基板或大批量生产。 该机台还为等离子增强化学气相沉积应用提供了独特的功能。

IoN 200

PVA TePla 的 IoN 40 是一款功能齐全的桌式先进射频等离子机，可用于表面改性，专为实验室和量产使用而设计，适用于处理较小的基板或中小产量。该机台还为等离子增强化学气相沉积应用提供了独特的功能。

IoN 40

IoN系列等离子系统信息由PVA TePla中国为您提供，如您想了解更多关于IoN系列等离子系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。