EBL电子束曝光系统/纳米图形发生系统NPGS

产品详情

美国JC Nabity Lithography Systems公司一直致力于基于商品SEM、STEM或FIB的电子束光刻装置的研制，其研发的EBL电子束曝光系统（Nanometer Pattern Generation System纳米图形发生系统，简称NPGS）技术优异，世界各地越来越多的用户包括大学、科研机构及政府实验室在使用NPGS进行EBL研究工作.

基于SEM/FIB改装的NPGS V9.1电子束曝光系统

　　1)NPGS以既有的SEM、STEM或FIB等为基础，外加电子束控制系统，透过电脑界面控制电镜中电子束的矢量扫描，以直接刻写图形。

　　2)NPGS系统兼具原SEM的观测功能。不影响SEM本身功能。

　　3)功能强大、操作简便、使用灵活。

　　4)NPGS和当今主流的SEM或FIB等均可配套。

NPGS V9.0是一个可以控制扫描电镜电子束的软件程序。基于电镜的电子束曝光简单分为两部分：刻写设计和图形运行。刻写设计是通过NPGS随机提供的DesignCAD程序来做。此CAD程序已经过修改，增加了用于电子束曝光的命令。图形运行包括设定参数，用于NPGS计算图形上每个点的位置以及曝光时间。

主要技术指标： 

型号：NPGS 

最细线宽（μm）：根据SEM 

最小束斑（μm）：根据SEM 

扫描场：可调 

加速电压：根据SEM，一般为0-40kV 

速度：5MHz（可选6 MHz） 

A. 硬件： 

微影控制介面卡：NPGS PCI-516A High Speed Lithography Board，high resolution (0.25%) 

控制电脑：Pentium IV 3.0GHz/ 512Mb RAM/ 80G HD/ Windows XP 

皮可安培计：KEITHLEY 6485 Picoammeter 

B. 软件： 

微影控制软件 NPGS V9.0 for Windows2000 或 XP  

图案设计软件 DesignCAD LT 2000 for Windows 

产品外观

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