PLD脉冲激光沉积系统-SVT

美国SVT公司PLD脉冲激光沉积系统用于沉积金属薄膜，氧化物薄膜，多元素材料薄膜的脉冲激光沉积系统，可以与多种薄膜制备设备连用。凭借多年的科研与实践经验，我公司为许多科研用户独立打造了PLD-MBE连用系统，PLD-UHV Suptter连用系统等。

应用：
ZnO材料功能薄膜
STO薄膜
金属薄膜
超导薄膜
铁电功能薄膜
功能陶瓷膜

技术参数：
超高真空E-10Torr
四／六靶靶台 可公转,自转
温度加热台到1000^oC
灵活的泵组合
线形运动挡板
在线检测系统(温度,厚度)
配备高能量激光器

主要特点：
RF射频等离子源(氧,氮)
升级高真空
增加进样室
升级为Laser-MBE （L-MBE）系统
自动软件控制

提供更洁净的薄膜生长环境,完美的温度控制解决方案.

PLD脉冲激光沉积系统-SVT信息由美国SVTA公司中国办事处为您提供，如您想了解更多关于PLD脉冲激光沉积系统-SVT报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。