您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?
如果企业客服不在线,也可拨打400电话联系。或者发布求购信息
应用领域
I 金属键合(wire-bond)前的等离子清洗
通过等离子表面处理可以去除焊盘表面的外来污染物与金属氧化物,提供一个清洁的焊接面,提升后续金属键合工艺的良率以及键合***。
II 塑封(Molding)前的等离子清洗
等离子清洗、活化工艺可以去除器件表面各种纳米级的污染物残留,并提升表面能,***塑封料与基底材料的紧密结合,减少分层等不良的产生。
III 底部填充(Underfill)前的等离子清洗:
IV 光刻胶的去除(Descum):
在微电子行业中,使用等离子去除光刻胶是一种常用的工艺,通过等离子处理可以去除显***孔底的残胶,并对孔的侧壁形貌就行修饰,提升后续工艺良率。此外,湿法去胶后,用等离子去除表面残留的纳米级光刻胶残留也可有效提升后续工艺良率。
设备特点
13.56MHz射频电源与自动匹配系统,具有***的稳定性与可重复性
灵活的电极结构设置与优化的气体馈入、分布方案,确保大批量处理的均匀性
安全的反应源供应系统,可满足多种工艺需求
PLC与工控机提供稳定的过程控制,设备运行的实时参数通过显示屏直观呈现
系统,易于保养与维护
Triton160 标准技术规格
CF4 = 99.97%; O2 = 99.996%; N2 = 99.99%;
Ar = 99.999%; 其余气体请咨询JETPLASMA
Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除,Triton160
Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除信息由上海螣芯电子科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
群组论坛--近红外(NIR)
您可能要找:诺信达格等离子体刻蚀设备Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除价格Triton160等离子体刻蚀设备参数
Copyright ©2007 ANTPedia, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号