400-6699-117 转 1000
虚拟号将在180秒后失效,请在有效期内拨打
若未完成电话咨询，您可提交留言咨询，厂商主动联系您
Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除
参考价：面议
品牌：诺信达格 产地：上海 型号：Triton160 样本：来电或留言获取样本
AI Agent
- Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除价格？
- Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除可以做哪些实验？
- Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除参数？
- Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除配套的耗材试剂？
- Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除操作规程？
- Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除使用注意事项？
参数
| 产地类别：国产 | 供应商性质：总代理 | 价格范围：50万-100万 |
产品介绍
Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除(Descum)
应用领域
I 金属键合(wire-bond)前的等离子清洗
通过等离子表面处理可以去除焊盘表面的外来污染物与金属氧化物，提供一个清洁的焊接面，提升后续金属键合工艺的良率以及键合***。
II 塑封(Molding)前的等离子清洗
等离子清洗、活化工艺可以去除器件表面各种纳米级的污染物残留，并提升表面能，***塑封料与基底材料的紧密结合，减少分层等不良的产生。
III 底部填充(Underfill)前的等离子清洗：
通过等离子表面处理可以去除焊盘表面的外来污染物与金属氧化物，提供一个清洁的焊接面，提升后续金属键合工艺的良率以及键合***。
IV 光刻胶的去除(Descum)：
在微电子行业中，使用等离子去除光刻胶是一种常用的工艺，通过等离子处理可以去除显***孔底的残胶，并对孔的侧壁形貌就行修饰，提升后续工艺良率。此外，湿法去胶后，用等离子去除表面残留的纳米级光刻胶残留也可有效提升后续工艺良率。
设备特点
13.56MHz射频电源与自动匹配系统，具有***的稳定性与可重复性
灵活的电极结构设置与优化的气体馈入、分布方案，确保大批量处理的均匀性
安全的反应源供应系统，可满足多种工艺需求
PLC与工控机提供稳定的过程控制，设备运行的实时参数通过显示屏直观呈现
系统，易于保养与维护
Triton160 标准技术规格
| 设备尺寸 | 宽*深*高 | 700W x 1200D x 1810H mm -- 2215H mm 带信号灯高度 |
| 腔体 | 尺寸 | 518W x 648D x 518H mm |
| 容积 | 173L | |
| 电极数量 | 高达 8 | |
| 电极间距 | 57mm | |
| 电极 | 功率电极尺寸 | 405W x 450D mm |
| 接地电极尺寸 | 477W x 450D mm | |
| 射频系统 | 射频功率及频率 | 1250W/13.56MHz |
| 气体控制 | 气路配置 | 标配两路 / ***多可扩充至5路气体 |
| 真空泵 | 标准配置 | 65m?/h油泵 / 80m?/h干泵（可选） |
| 5-25L/min | ||
| 干泵冷却水流量 | 3~7L/min | |
| 厂务要求 | 供电要求 | 380V, 16A, 50Hz, 3-Phase, 11AWG, 5-Wire |
| 工艺气体接口及尺寸 | 1/4英寸卡套接口 | |
| 工艺气体种类及纯度 | CF4 = 99.97%; O2 = 99.996%; N2 = 99.99%; Ar = 99.999%; 其余气体请咨询JETPLASMA | |
| 工艺气体压力 | 15~20 psig | |
| 吹扫气体种类及纯度 | N2=99.99% | |
| 吹扫气体压力 | 10-60 psig | |
| 气动用接口及尺寸 | 1/4英寸卡套接口 | |
| 气动用气体及压力 | CDA, 60~90 psig | |
| 排气口接口及尺寸 | KF40 | |
| 环境温度 | 5~40℃ | |
| 相对湿度 | 40~60% |
Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除信息由螣芯科技为您提供，如您想了解更多关于Triton160 等离子清洗机13.56MHZ可适用于光刻胶的去除报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
等离子体刻蚀设备产品推荐
最新评论
