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HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser),适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。应用: · CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD · 真空涂覆/ 等离子刻蚀 · 沉积溅射 · 污染物研究 · 基本压力辨别 · 泄漏探测/ 实质泄漏/脱附分析 · 除气/烘烤/泵效能 · 反应室/过程气体污染物特点:
·简洁的桌上型,移动推车或控制台架结构·Direct re-entrant流孔板,差式泵,以达到最适宜的灵敏度
· 连续取样从10-4mbar至1mbar.
· 高灵敏度(最优可至5ppb),质量数可选至1000amu
·软离子化技术,分析复杂有机物,或表观MS研究
· 稳定性好(24h之上,峰高变化小于±0.5%)
·MASsoft软件控制,或由局域网进行多个系统控制·气动阀自动控制;出现电力不足或压力过大等不安全状况时可启用手动隔离装置·自动、同时数据取得、分析,实时显示、报警
参数
·质量数范围: 1~200 amu(标准配置); 300、510、1000amu可选
·高灵敏度: 5ppb
·取样压力: 10-4mbar~1mbar 标准配置,1Number~30Bar选配
·稳定性好: 24h以上,小于峰高的±0.5%
·过程控制开关
·信号输入、输出接口
Hiden HPR30过程气体分析质谱仪,HPR30
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QGA定量气体分析质谱仪 HAPR0128
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