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高分辨率辉光放电质谱仪主要用于高纯材料的杂质分析,例如高纯Si,As, Ge, Cu, Ga, Nb, Ta, 稀土等等,还有陶瓷,玻璃,功能材料等等,是半导体行业,材料行业,冶金行业,等等不可缺少的仪器
连续可调高分辨率
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低背景,包括低质量数端的背景
针状,片状样品
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Nu Astrum 辉光放电质谱仪,Astrum
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T/CSTM 00445-2021 辉光放电质谱仪校准规范
YS/T 871-2013 高纯铝化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
GB/T 23275-2009 钌粉化学分析方法.铅、铁、镍、铝、铜、银、金、铂、铱、钯、铑、硅量的测定.辉光放电质谱法
GB/T 37211.3-2022 金属锗化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
GB/T 26018-2010 高纯钴
GB/T 26016-2010 高纯镍
GB/T 26017-2010 高纯铜
YS/T 229.4-2013 高纯铅化学分析方法 第4部分:痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法
YS/T 891-2013 高纯钛化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
YS/T 917-2013 高纯镉化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法
YS/T 895-2013 高纯铼化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
YS/T 899-2013 高纯钽化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
YS/T 901-2013 高纯钨化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
YS/T 35-2012 高纯锑化学分析方法 镁、锌、镍、铜、银、镉、铁、硫、砷、金、锰、铅、铋、硅、硒含量的测定 高质量分辨率辉光放电质谱法
YS/T 1288.4-2018 高纯锌化学分析方法 第4部分:痕量元素含量的测定 辉光放电质谱法
YS/T 922-2013 高纯铜化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法
T/ZZB 2283-2021 半导体级碳化硅单晶用超高纯石墨粉
DB35/T 1146-2011 硅材料中杂质元素含量测定 辉光放电质谱法
T/CSTM 00277.2-2022 分析仪器稳定性评价 第2部分:基于实验室内测定结果精密度的评价
YS/T 897-2013 高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
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