Photonic Professional GT2高分辨率高精度三维微纳加工设备

兼顾微观和宏观的高精度3D无掩模光刻
Photonic Professional GT2

    Nanoscribe Photonic Professional GT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状：晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。

    Photonic Professional GT2 结合了设计的灵活性和操控的简洁性，以及广泛的材料-基板选择。因此，它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备，适用于多用户共享平台和研究实验室。

    Nanoscribe的3D无掩模光刻机目前已经分布在30多个国家的前沿研究中，超过1,400个开创性科学研究项目是这项技术强大的设计和制造能力的最好证明。

Photonic Professional GT2：微纳加工的革新者

在微纳加工的世界里，Nanoscribe的Photonic Professional GT2犹如一颗璀璨的明星，以其卓越的性能和无与伦比的精度，引领着科学研究和快速成型的潮流。这款三维微纳加工设备，不仅集成了多种微加工模组，更是科学研究和快速成型的多用途设备，为快速手板制作和超精密微加工提供了精度最高的3D无掩模光刻解决方案。

1.关键特性

1.1专用于科学研究和快速成型：Photonic Professional GT2专为科研和快速成型设计，装配有galvo振镜模组，实现了高速三维超精密加工。

1.2亚微米特征尺寸的设计自由度：在亚微米特征尺寸上，该设备实现了完全的三维设计自由度，为微流道、微机械、生物医学工程等领域提供了无限可能。

1.3直接使用CAD生成的STL格式三维模型进行加工：简化了无掩模光刻工作流程，使得加工过程更加直观和高效。

2.广泛的印刷材料-基材选择：为多尺度和多领域的三维微加工量身定制解决方案，支持广泛的材料和基板选择。

3.技术参数

3.1无掩模光刻技术：采用逐层双光子光固化技术，实现了三维最小横向特征尺度可达160 nm，二维横向分辨率400 nm，最佳纵向分辨率1,000 nm。

3.2最大加工体积：最大加工体积达到100 x 100 x 8 mm³，为大尺寸微纳结构的加工提供了可能。

3.3最佳平面粗糙度Ra：最佳平面粗糙度Ra≤20 nm，保证了加工表面的高精度和平滑度。

4.应用领域

Photonic Professional GT2的多功能性在多个领域中协助完成了关键性创新，包括机械超材料、光学超材料、自由曲面光学元件、可操控的微马达和具有生物兼容性的细胞支架等。这些成果不仅在同行评审的期刊出版物中得到广泛认可，也成为突破性研究的例证。

5.为什么选择Nanoscribe

作为技术先驱和市场领导者，Nanoscribe是您在高精度无掩模光刻领域的可靠伙伴。我们的客户包括全球顶尖大学和高科技企业，如哈佛大学、加州理工大学、华为技术有限公司、美国苹果公司等。我们提供便捷的解决方案，将用户的灵感和想法变为实物，帮助他们实现突破性的创新。

6.客户支持与技术服务

我们的多语种技术服务团队为您提供全方位的客户支持，包括装机调试、定时维护和故障修理、使用培训课程、在线知识库NanoGuide、电话、电子邮件和远程支持等。我们致力于提供超越基础应用的技术支持，以及延长保养和保修选项，提供升级和搬迁服务。

选择Nanoscribe的Photonic Professional GT2，让我们一起开启微纳加工的新篇章，探索科学的无限可能。

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