解密镀层工艺、解析镀层结构——Profiler 2
辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段，可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳极、光学玻璃、核材料等。
GD-Profiler 2 作为超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体和非导体复合镀层的分析，操作简单、便于维护，是镀层材料研发、质控的理想工具。
· 使用脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。
· 采用多项专利技术，如高动态检测器（HDD），可测试ppm-100%的浓度范围，专利Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。
· 分析速度快（2-10nm/s）
技术参数：
1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。
2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。
3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。
4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。
5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。
6、宽大的样品室方便各类样品的加载。
7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。
8、HORIBA独有的单色仪（选配）可极大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。
9、适用于ISO14707和16962标准。
仪器原理：
辉光放电腔室内充满低压氩气，当施加在放电两极的电压达到一定值，超过激发氩气所需的能量即可形成辉光放电，放电气体离解为正电荷离子和自由电子。在电场的作用下，正电荷离子加速轰击到（阴极）样品表面，产生阴极溅射。在放电区域内，溅射的元素原子与电子相互碰撞被激化而发光。
射频辉光放电光谱仪(GD), HORIBA GD Profiler 2
射频辉光放电光谱仪(GD)信息由上海巨纳科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于射频辉光放电光谱仪(GD)报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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