CIF匀胶旋涂仪

• 匀胶旋涂仪CIF匀胶机转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。匀胶旋涂仪广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅片、载玻片，晶片，基片，ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。

匀胶旋涂仪产品特点

v 采用闭环控制伺服电机，数字式增速信号反馈，速匀准确，寿命长，保证匀胶的均一性。

v 5寸全彩触摸屏，智能程序化可编程操控显示，标配10个匀胶梯度阶段（速度和时间梯度设置），可选配10个可编程程序，每个程序下可设置10个匀胶梯度阶段，z多100个阶段。

v 内置水平校准装置，保证旋涂均匀，可对大小不同规格的基片进行旋涂。

v 多重安全保护:

» 电磁安全开关，盖子打开卡盘停止，保证安全；

» 盖子自锁功能，防止飞片盖弹开伤人；

» 双重安全上盖，聚四氟嵌镶钢化玻璃，避免单一玻璃或者亚克力上盖飞片伤人，保证实验人员安全。

v 样品托盘卡口和样品托盘之间三重密封安全保护，有效降低电机进胶的风险。

v 一机两用，根据不同样品可选真空吸盘和非真空卡盘两种旋涂方式。

v 符合人体功能学的水平取放样品旋涂托盘设计，取放样品方便。

v 不锈钢喷塑涂层旋涂壳体，旋涂腔体采用PTFE材料。旋涂托盘采用聚丙烯（NPP-H）材料，耐酸碱防腐蚀，保证仪器在苛刻条件下仍能正常运行。

v 上下双腔体设计，较大的上腔体便于擦拭去除胶液，锥形下腔体结构设计便于收集胶液，并带废胶收集装置

v 可选氮气吹干、氮气保护，自动滴胶或简易滴胶装置，提供多的操作便利性。

v 适用硅片、玻璃、石英、金属、GaAs，GaN，InP 等多种材料。

匀胶旋涂仪技术参数

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