PHI5000 VersaProbeIII是PHI扫描XPS微探针设备最新产品,应用了PHI业界领先的专利扫描X-射线技术和专利双束中和技术，成为更高水平的多功能分析仪器。
最新技术：
l 新的分析器输入透镜,将灵敏度提高了两到三倍。
l 新的多通道探测器使得元素和化学态成像速度更快。
l 新的变角分析技术（ADXPS）收集角可达+/-5°,改善深度分辨率。
l 冷热样品台的温度范围得到提高,-140℃到+600℃。
l 新的加热专用样品托可加热至800℃。
l 新的四点电触式冷热样品台可对样品进行原位通电和加热冷却实验。
l 新设计的紫外光电子能谱UPS可自动点火和输送气体。
l 经过改善的俄歇SAM技术提供了更高的灵敏度和更好的信噪比，可同时进行REELS分析。
原位低能反光电子能谱 (LEIPS) 可在较低电子能量下（对材料无损伤）测试样品的导带信息。
PHI5000 Versaprobe III主要特征和功能：
1. 微聚焦的扫描X射线束可应对从微区到大面积的分析需求。
2. 高可靠全自动分析能力,可实现无人值守式队列分析。
3. 微区成像和图谱采集,可同时高效对多个微区进行对比分析。
4. 溅射深度剖析,可分析膜层结构和成分深度变化。
5. 多种技术联用的超高真空分析腔室,可扩展UPS、IPES、AES、C60、GCIB等多种技术。
6. 智能用户操作界面（SmartSoft-VersaProbe）。
7. 数据处理软件(MultiPak)。
扫描聚集X-射线技术是Versaprobe III的核心技术,也是PHI公司的专利技术。单色、扫描、聚 集X-射线源可以更好地分析微观及宏观区域,全部的X射线设定（包括束斑直径小于10μm的设定） 都能用于采谱分析,深度剖析和影像分析。具体表现如下：
1. 微聚焦的扫描X射线束。
2. X射线束用于二次电子成像。
3. XPS成分影像的每个像素点都可用于化学分析。
4. 单点或多点采谱分析。
5. 单点或多点薄膜分析。
微区分析
极佳的微区分析功能：
1. 鼠标点击定义分析区域。
2. 强大的Z轴自动校准功能。
3. 一键双束中和功能。
4. 在自动分析队列中,无须样品导电性。
深度剖析的优势：
优化结构设计；
微聚焦X射线束；
灵敏度更高的分析器；
高效的离子枪；
独特的双束中和功能；
带Zalar Rotation™功能的样品台；
微区的深度剖析功能；
多点的深度剖析功能。
1、无机物深度剖析：离子枪的工作电压在0-5KeV范围内可调。配有低电压的浮动电位,可用于超薄 薄膜的深度分析。独特设计的枪体弯曲结构可自动屏蔽中性的氩原子。
PHI 5000 Versaprobe III 多功能型扫描XPS微探针, PHI 5000 Versaprobe III
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