PHI 5000 Versaprobe III 多功能型扫描XPS微探针

PHI5000 VersaProbeIII是PHI扫描XPS微探针设备最新产品,应用了PHI业界领先的专利扫描X-射线技术和专利双束中和技术，成为更高水平的多功能分析仪器。

最新技术：

l  新的分析器输入透镜,将灵敏度提高了两到三倍。

l  新的多通道探测器使得元素和化学态成像速度更快。

l  新的变角分析技术（ADXPS）收集角可达+/-5°,改善深度分辨率。

l  冷热样品台的温度范围得到提高,-140℃到+600℃。

l  新的加热专用样品托可加热至800℃。

l  新的四点电触式冷热样品台可对样品进行原位通电和加热冷却实验。

l  新设计的紫外光电子能谱UPS可自动点火和输送气体。

l  经过改善的俄歇SAM技术提供了更高的灵敏度和更好的信噪比，可同时进行REELS分析。

原位低能反光电子能谱 (LEIPS) 可在较低电子能量下（对材料无损伤）测试样品的导带信息。

PHI5000 Versaprobe III主要特征和功能：

1.  微聚焦的扫描X射线束可应对从微区到大面积的分析需求。

2.  高可靠全自动分析能力,可实现无人值守式队列分析。

3.  微区成像和图谱采集,可同时高效对多个微区进行对比分析。

4.  溅射深度剖析,可分析膜层结构和成分深度变化。

5.  多种技术联用的超高真空分析腔室,可扩展UPS、IPES、AES、C60、GCIB等多种技术。

6.  智能用户操作界面（SmartSoft-VersaProbe）。

7.  数据处理软件(MultiPak)。

扫描聚集X-射线技术是Versaprobe III的核心技术,也是PHI公司的专利技术。单色、扫描、聚      集X-射线源可以更好地分析微观及宏观区域,全部的X射线设定（包括束斑直径小于10μm的设定）    都能用于采谱分析,深度剖析和影像分析。具体表现如下：

 1.  微聚焦的扫描X射线束。

 2.  X射线束用于二次电子成像。

 3.  XPS成分影像的每个像素点都可用于化学分析。

 4.  单点或多点采谱分析。

 5.  单点或多点薄膜分析。

微区分析

极佳的微区分析功能：

1.   鼠标点击定义分析区域。

2.   强大的Z轴自动校准功能。

3.   一键双束中和功能。

4.   在自动分析队列中,无须样品导电性。

深度剖析的优势：

优化结构设计；

微聚焦X射线束；

灵敏度更高的分析器；

高效的离子枪；

独特的双束中和功能；

带Zalar Rotation™功能的样品台；

微区的深度剖析功能；

多点的深度剖析功能。

1、无机物深度剖析：离子枪的工作电压在0-5KeV范围内可调。配有低电压的浮动电位,可用于超薄      薄膜的深度分析。独特设计的枪体弯曲结构可自动屏蔽中性的氩原子。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途