ASI J200 LA 激光剥蚀进样系统

J200 LA 激光剥蚀进样系统特色 
      高稳定Q开关, 短脉冲Nd:YAG 激光 ，可选择多波长 < 5 nsec at 213 nm ，创新的模组化设，为独立 LA, LIBS, LA - LIBS 复合的系统设计 ，因分析需求，提供三种LIBS 检测器选择 ，激光剥蚀均匀且一致性的LA系统 
      自动样品高度调整功能 

      J200激光剥蚀进样系统采用ASI专利技术：剥蚀导航激光和样品高度自动调整传感器相结合，解决了若样品表面凹凸不平而剥蚀不均、导致元素含量值误差大的问题；激光能量稳定阀确保了到达样品表面的激光能量均匀，使所有采样点的激光烧蚀均匀一致；3-D全自动操作台最大行程可达100mmx100mmx36mm，XY行程分辨率0.2μm，Z行程分辨率0.1μm， 优于其它任何同类产品

      稳定激光能量的光闸设置 

      高分辨双CMOS相机系统， 可用于宽视野观测样品表面特征 应用光谱公司的 Flex 样品室内置气体模组可优化气流和颗粒清洁能力，满足不同测量要求，先进的微集气管设计，可尽可能的减少排气，防止集结剥蚀颗粒，消除记忆影响。  
      双通道高精度质量流量控制器和电子控制阀 
      Axiom LA 软件系统 
      软件可整合控制硬件组件及ICP-MS 同pu步操作，轻松实现繁杂的激光采样与分析模式 ，强大的数据分析工具用于繁杂的 LA-ICP-MS 串联光谱分析 

      灵活的分析方法：全分析，夹杂物分析，斑点分析，深度分析和元素分映像 
      维护成本低 

      可扩充升级LA – LIBS 复合系统 
      可扩充升级飞秒 LA 系统 

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