ASI J200 LA 激光剥蚀进样系统

J200 LA 激光剥蚀进样系统特色 
      高稳定Q开关, 短脉冲Nd:YAG 激光 ，可选择多波长 < 5 nsec at 213 nm ，创新的模组化设，为独立 LA, LIBS, LA - LIBS 复合的系统设计 ，因分析需求，提供三种LIBS 检测器选择 ，激光剥蚀均匀且一致性的LA系统 
      自动样品高度调整功能 

      J200激光剥蚀进样系统采用ASI专利技术：剥蚀导航激光和样品高度自动调整传感器相结合，解决了若样品表面凹凸不平而剥蚀不均、导致元素含量值误差大的问题；激光能量稳定阀确保了到达样品表面的激光能量均匀，使所有采样点的激光烧蚀均匀一致；3-D全自动操作台最大行程可达100mmx100mmx36mm，XY行程分辨率0.2μm，Z行程分辨率0.1μm， 优于其它任何同类产品

      稳定激光能量的光闸设置 

      高分辨双CMOS相机系统， 可用于宽视野观测样品表面特征 应用光谱公司的 Flex 样品室内置气体模组可优化气流和颗粒清洁能力，满足不同测量要求，先进的微集气管设计，可尽可能的减少排气，防止集结剥蚀颗粒，消除记忆影响。  
      双通道高精度质量流量控制器和电子控制阀 
      Axiom LA 软件系统 
      软件可整合控制硬件组件及ICP-MS 同pu步操作，轻松实现繁杂的激光采样与分析模式 ，强大的数据分析工具用于繁杂的 LA-ICP-MS 串联光谱分析 

      灵活的分析方法：全分析，夹杂物分析，斑点分析，深度分析和元素分映像 
      维护成本低 

      可扩充升级LA – LIBS 复合系统 
      可扩充升级飞秒 LA 系统 

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途