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Agilent 5900 SVDV ICP-OES 系统是一种发射光谱仪,专为要求最为严格的高通量实验室而设计。利用该系统,您可以在更短时间内以低于其他任何 ICP-OES 仪器的样品成本获得可靠答案。 凭借创新的自由曲面光学设计与包含众多内置传感器、算法和诊断功能的智能化监控体系,以及针对最大程度提高通量而进行的全面优化,5900 SVDV ICP-OES 可确保让您在竞争中脱颖而出。
采用同步垂直双向观测 (SVDV),实验室能够以较低成本运行更多样品,该观测模式凭借独特的智能光谱组合技术 (DSC),可在一次读数过程中同时获得轴向和径向的等离子体观测数据,从而实现高速高效的样品分析,确保复杂基质样品的分析准确度。
使用 5900 ICP OES 随附的集成式高级阀系统 (AVS),加快分析速度并大大减少氩气用量,同时实现高精度的分析。
在数秒内开始采集数据,无需选择使用 IntelliQuant Screening 分析的元素或波长
使用安捷伦独有的 IntelliQuant 功能,了解有关样品的更多信息。IntelliQuant 能够采集整个波长范围内的数据,识别光谱干扰并为您提供建议,确保您始终获得准确结果。
通过传感器和计数器进行智能仪器状态追踪,并在系统需要维护时为用户提供指导,助您有效缩短停机时间、降低维护成本。
Neb Alert 功能可持续监测雾化器,并在雾化器需要清洁或发生泄漏时提醒您,从而避免时间浪费和故障排除成本。
内置于 ICP Expert 软件的智能算法使方法开发更有据可依,并能实现自动化故障排除,包括:拟合背景校正 (FBC)、快速自动曲线拟合技术 (FACT)、元素间干扰校正 (IEC)、IntelliQuant 和智能冲洗。
利用 ICP Expert Pro 软件提高分析效率和增强质量控制,该软件为用户提供了实时导出到 Microsoft Excel、自定义重复检测、集成的 prepFAST 自动稀释器操作、速率驱动的 QC 以及其他高级软件功能。
Agilent 5900 SVDV ICP-OES ,5900 ICP-OES
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Agilent 5800 ICP-OES
很多原因都可能导致您不得不二次测量样品。测量过程中可能发生样品混淆或其他问题。您可能只有在 QC 溶液分析失败或者检查结果并注意到异常时才会发现问题。无论出于何种原因,重新测量样品都非常费时、令人倍感压力且成本高昂。 必须重新测量样品的原因通常分为两类:仪器相关问题和样品相关问题。样品相关问题包括从样品消解和前处理到样品基质问题和样品混淆的各种问题。 本文介绍了如何避免其中常见的问题及如何应对,从而节省时间。
ICP-MS 作为一种金属元素分析仪器应用于半导体产业链,始于 20 世纪 80 年代。随着半导体制程的不断迭代,整个行业对 ICP-MS 的性能提出了越来越高的要求。过去 30 年来,位于日本东京的安捷伦 ICP-MS
许多环境实验室使用 ICP-OES 并根据法规方法(例如 US EPA 200.7)来分析大量不同类型的样品:水、土壤和污泥。为快速获得高质量的分析结果,快速分析和无差错的工作流程至关重要。样品前
使用 ICP-OES 分析样品时,需要考虑的一个主要问题是样品中总溶解态固体 (TDS)的含量。许多常见样品中含有高浓度的 TDS,例如环境实验室常分析的土壤、污泥和盐溶液等样品,以及矿物、采矿和土壤实验室日常分析的各种
Agilent 5900 同步垂直双向观测 (SVDV) ICP-OES 通过一系列操作、性能和分析效率方面的改善,颠覆了传统双向观测 ICP-OES 概念。专为希望高效运行样品,并使每个样品分析的成本降到最低的高样品通
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