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EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。
EIS-200原理:
利用ECR技术产生高能Ar+离子束,Ar+离子束通过电场加速到达样品表面,对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。
EIS-200具有以下优点:
方向性好,各向异性,陡直度高,侧向刻蚀少
分辨率高
不受刻蚀材料限制,可对石英等材料进行蚀刻
可控制蚀刻Taper角
可以设定多样的实验条件
NPD(纳米图案成膜单元)选项(如下图)
主要功能
纳米级图案刻蚀
高深宽比蚀刻
离子束沉积
表面清洁
离子减薄
技术能力
应用
纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等
SiO2 on Si substrate
Diamond Substrate(金刚石)
Quartz (Mask)
Oriented PET film
离子束刻蚀/沉积系统,EIS-200
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离子束刻蚀/沉积系统
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