您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?
如果企业客服不在线,也可拨打400电话联系。或者发布求购信息
扩散炉、低压化学气相沉积设备(LPCVD)
产地:韩国;
有单管和双管两个不同的型号,用于科研或者小规模生产。
性能和特点:
- 温度范围:500 ~ 1000摄氏度;
- 气体混合能力(带有质量流量计);
- 真空范围:~ 10-6 Torr;
典型应用:
- 无应力氮化硅;
- LPCVD;
- 退火;
- 氧化;
- 其他...
低压化学气相沉积系统(LPCVD), LC-100, LC-102
低压化学气相沉积系统(LPCVD)信息由上海载德半导体技术有限公司为您提供,如您想了解更多关于低压化学气相沉积系统(LPCVD)报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
群组论坛--测试分析仪器专家
您可能要找:Ecopia半导体检测仪低压化学气相沉积系统(LPCVD)价格 LC-100, LC-102半导体检测仪参数
Copyright ©2007 ANTPedia, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号