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产品简介:ME-L是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了科研团队在椭偏技术多年的投入,其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于半导体薄膜结构,半导体周期性纳米结构,新材料,新物理现象研究,平板显示,光伏太阳能,功能性涂料,生物和化学工程,块状材料分析以及各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。
双旋转补偿器(DRC)配置一次测量全部穆勒矩阵16个元素;配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬件模块,软件交互式界面配合辅助向导式设计,易上手、操作便捷;丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。
产品型号
ME-L全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪
主要特点
1、采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)
2、可实现穆勒矩阵数据处理,测量信息量更大,测量速度快、数据更加精准
3、基于双旋转补偿器配置,可一次测量获得全部穆勒矩阵的16个元素,相对传统光谱椭偏仪可获取更加丰富全面的测量信息
4、颐光专利技术确保在宽光谱范围内,提供优质稳定的各波段光谱
5、数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料
6、集成对纳米光栅的分析,可同时测量分析纳米结构周期、线宽、线高、侧壁角、粗糙度等几何形貌信息
技术参数
1、应用:科研级/企业级
2、基本功能:Psi/Delta、R/T、穆勒矩阵等光谱
3、分析光谱:380-1000nm(支持扩展至210-1650nm)
4、单次测量时间:1-8s
5、重复性测量精度:0.005nm
6、绝对精度(直通测量空气)
椭偏参数:ψ=45±0.05°△=0±0.1°
穆勒矩阵:对角元素m=1±0.005;非对角元素m=0±0.005
7、光斑大小:大光斑2-3mm;微光斑200μm
可选配置
波段选择
V:380-1000nm
UV:245-1000nm
XN:210-1650nm
DN+:193-2500nm
角度选择
自动:45-90°
手动:55-75°(5°步进),90°
固定:65°
其他选择
Mapping选择:100×100mm(供参考,按需定制)
温控台:室温一600C(供参考,按需定制)
可选配件
1
温控台
2
Mapping扩展模块
3
真空泵
4
透射吸附组件
全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,ME-L
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