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SWC-3000兆声晶圆(掩模版)清洗机概述:
兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的z大化支持z理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。
SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以*节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。
SWC-3000兆声晶圆(掩模版)清洗机应用:
· 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
· Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
· CMP处理后的晶圆片清洗
· 晶圆框架上的切粒芯片清洗
· 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
· 带保护膜的分划版清洗
· 掩模版空白部位或接触部位清洗
· X射线及极紫外掩模版清洗
· 光学镜头清洗
· ITO涂覆的显示面板清洗
· 兆声辅助的剥离工艺
特点:
· 台式系统
· 无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干
· 支持12”直径的圆片或9”x9”方片
· 微处理机自动控制
· IR红外灯
选配项:
· 掩模版或晶圆片夹具
· PVA软毛刷清洗
· 化学试剂清洗(CDU)
· 氮气离子发生器
SWC-3000兆声晶圆(掩模版)清洗机,SWC-3000
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