SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机

SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机概述：

兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。

NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的z大化支持z理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。

SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以*节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。

SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机应用：

·         带图案或不带图案的掩模版和晶圆片

·         Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗

·         CMP处理后的晶圆片清洗

·         晶圆框架上的切粒芯片清洗

·         等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗

·         带保护膜的分划版清洗

·         掩模版空白部位或接触部位清洗

·         X射线及极紫外掩模版清洗

·         光学镜头清洗

·         ITO涂覆的显示面板清洗

·         兆声辅助的剥离工艺

特点：

·         台式系统

·         无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干

·         支持12”直径的圆片或9”x9”方片

·         微处理机自动控制

·         IR红外灯

选配项：

·         掩模版或晶圆片夹具

·         PVA软毛刷清洗

·         化学试剂清洗(CDU)

·         氮气离子发生器

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途