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德国海德堡 VPG+800/VPG+1400大幅面掩膜版制作激光光刻机
参考价：面议
AI Agent
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参数
| 供应商性质：生产商 | 产地类别：进口 | 价格范围：100万-300万 |
产品介绍
这些大面积VPG+工具专为大面积光掩模（0.8至1.4米）的高通量图案化而定制。VPG+1400是我们专门为显示行业设计的最大系统。它最适合平板显示器（FPD）应用，如TFT阵列、滤色器和ITO。这些工具还用于先进封装、半导体、LED和触摸面板应用的工业大面积光掩模应用。
VPG+系列专为高质量和快速曝光而设计，具有极其精确的对准。它具有分辨率低至1.2 nm的差分干涉仪。Mura优化确保了出色的CD均匀性和分辨率。闭环环境室符合先进光掩模制造的最严格要求。写入条件的稳定确保了掩模到掩模的再现性，并补偿了长时间曝光期间的任何变化。VPG+系统支持所有工业数据格式。
专为显示应用中大型基板上的光掩模生产而设计
产品描述
VPG 1400 FPD 是全球光掩模制造商用于大批量生产的终极体积图形发生器，可实现突破性的效率和卓越的质量。它是我们专为显示器行业设计的最大系统，专为大面积光掩模 （1.4 m） 的高通量图形化量身定制。它是平板显示器 （FPD） 应用的最佳选择，专为处理大幅面基板而设计，使其成为希望在显示器行业脱颖而出的制造商的理想解决方案。+
VPG1400 FPD 专为高质量和快速曝光而设计，具有极其精确的对准。它具有分辨率低至 1.2 nm 的差分干涉仪。Mura 优化确保了出色的 CD 均匀性和分辨率，而闭环环境室符合高级光掩模制造的最严格要求。+
增强您的 FPD 制造
完美显示：VPG 1400 FPD 是创建高分辨率光掩模的一站式商店，用于生产 TFT 阵列、彩色滤光片和氧化铟锡 （ITO） 电极等关键显示组件。实现下一代显示器所需的精度和质量。+
出色的吞吐量：VPG 1400 FPD 卓越的吞吐量能力可确保快速生产掩模，从而满足大批量显示器制造的需求并优化您的生产线。+
最高的精度和可靠性：VPG 1400 FPD提供了在大幅面掩模上创建复杂图案所需的精度和分辨率，保证了您的设计的完美转移。它 24/7 全天候可靠运行，以实现可预测的交货时间。+
高级计量：包括计量包和工具匹配功能，用于大面积灰度掩模生产中的精确第 2 层对齐功能。
最大限度地提高性能
超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器可显著缩短写入时间，使您能够更快地生产掩模并最大限度地提高产量。
VPG 1400 FPD 拥有出色的亚微米分辨率和图像质量，可确保将您的设计图案准确转移到光掩模上，以实现完美的显示。+
自动校准工具通过确保书写结构的出色配准和定位来简化您的工作流程，从而节省您的时间并最大限度地减少错误。
大尺寸精密载物台具有灵活的真空布局，可容纳高达 1400 mm 的基板，非常适合处理中大型显示器光掩模的需求。
闭环环境室在整个过程中保持最佳条件，确保每次运行都保持一致的掩模质量。
VPG 1400 FPD 支持所有工业数据格式，可与现有设计和制造工作流程顺利集成。+
投资显示技术的未来
VPG 1400 FPD 是对未来显示器生产能力的投资。通过在生产中实施它，您可以实现：+
卓越的掩模质量，实现完美的显示性能。
高吞吐量，适用于大批量显示器生产并提高盈利能力。
以非常经济的工具价格降低生产成本。
高效的工具作和可靠的性能。
面向未来的技术，可随下一代显示器的需求而扩展。
产品亮点
曝光质量
边缘粗糙度 20 nm;局部 CD 均匀性 50 nm;地址网格 8 nm;Mura 校正、边缘检测。
写入稳定性
高度稳定的气候室、实时气候补偿和软件校正，可应对任何环境变化。
自动对准
计量包，具有自动全局和逐场对准和失真校正功能。用于载物台位置校准和工具匹配的复杂 2D 校正矩阵。
可扩展性
可轻松扩展，适用于从中小型到 G8 显示屏光掩模的所有尺寸。
Mura 控制
间距和面板间距优化。
可用模块
光掩模处理
半自动基板加载。
定制
可根据要求提供特殊基材、装载机或掩模处理。
客户应用
自 2007 年以来，VPG 系统及其继任者 VPG 系统已被证明是大批量生产要求苛刻的光掩模的理想解决方案，尤其是用于电子封装、彩色滤光片、发光二极管和触摸屏。作为光刻制造的主模板，这种光掩模必须满足线宽均匀性、图案位置精度、边缘粗糙度和最小特征尺寸的最高要求。+
VPG 系列可用于所有与显示器相关的应用。在这个领域，对光掩模的质量要求非常高。一个关键指标是所谓的 Mura 条件，它描述了由于规则周期性模式中的任何干扰而导致的“不均匀性”。如果 Mura 条件不满足要求，则最终显示可能会出现暗点或斑点。V 系列无掩模光刻系统提供特殊的 Mura 优化功能，以实现良好的 Mura 条件、出色的 CD 均匀性和分辨率。+
蚀刻后在镀铬掩模上显示应用测试图案，并进行抗蚀剂剥离。
蚀刻后在镀铬掩模上显示应用图案，并防止剥离。
蚀刻后在镀铬掩模上显示应用图案，并防止剥离。
蚀刻后在镀铬掩模上显示应用图案，并防止剥离。
蚀刻后在镀铬掩模上显示应用图案，并防止剥离。
客户为什么选择我们的系统
“在 TNO @ Holst 中心，海德堡仪器 VPG 在我们的研发工作中发挥了重要作用，它提供了快速循环设计迭代的能力，并开发和优化了这些设计的制造流程。”
Auke Jisk Kronemeijer，薄膜电子研究经理 TNO @ Holst Centre，埃因霍温，荷兰
VPG 使我们能够实现尺寸低至 1 μm 的铜线和芯片到芯片互连，其特征尺寸比使用传统掩模对准器工艺时小三倍。
Markus Wöhrmann
德国柏林弗劳恩霍夫微集成和可靠性研究所，用于晶圆级封装的光刻和薄膜聚合物组负责人
“在 TNO @ Holst 中心，海德堡仪器 VPG 在我们的研发工作中发挥了重要作用，它提供了快速循环设计迭代的能力，并开发和优化了这些设计的制造流程。”
Auke Jisk Kronemeijer，薄膜电子研究经理 TNO @ Holst Centre，埃因霍温，荷兰
VPG 使我们能够实现尺寸低至 1 μm 的铜线和芯片到芯片互连，其特征尺寸比使用传统掩模对准器工艺时小三倍。
Markus Wöhrmann德国柏林弗劳恩霍夫微集成和可靠性研究所，用于晶圆级封装的光刻和薄膜聚合物组负责人
技术数据
| 写入模式 | QX | FX |
|---|---|---|
| 写入性能 | 高质量 | 高吞吐量 |
| 最小结构尺寸 [μm] | 0.8 | 1 |
| 地址网格 [nm] | 8 | 8 |
| 边缘粗糙度 [3σ， nm] | 20 | 40 |
| CD 均匀性 [3σ， nm] | 50 | 70 |
| 板到板覆盖 [3σ， nm] | 250 | 250 |
| 拼接 [3σ， nm] | 40 | 50 |
| 套准 [3σ， nm] | 100 | 100 |
| 写入速度 [mm²/min] | 1375 | 2750 |
| 系统特点 | |
|---|---|
| 光源 | 355 nm 高功率 DPSS 激光器 |
| 最大基板尺寸 | 1400 x 1400 平方毫米 |
| 基材厚度 | 0 至 13.2 毫米 |
| 最大曝光面积 | 1400 x 1400 平方毫米 |
| 自动对焦 | 实时自动对焦系统（光学和气动） |
| 自动对焦补偿范围 | 150 微米 |
| 自动化 | 半自动上料系统 |
| 流箱 | 闭环温控环境室 |
| 对准 | 用于计量和校准的相机系统 |
| 其他功能和选项 | 平台图校正、Mura 和面板间距优化、边缘检测器系统、多种数据输入格式（DXF、CIF、GDSII 和 Gerber 文件） |
| 系统尺寸 | |
| 主机（门关闭，装载机伸出） | |
| 宽度 [mm] | 5370 |
| 深度 [mm] | 7000 |
| 高度 [mm] | 2800 |
| 重量 [kg] | 25000 |
| 安装要求 | |
| 电气 | 400 VAC ± 5 %，50/60 Hz，32 A |
| 压缩空气 | 8 - 10 巴 |
请注意，规格取决于各个工艺条件，并且可能因设备配置而异。写入速度取决于像素大小和写入模式。设计和规格如有更改，恕不另行通知。
德国海德堡 VPG+800/VPG+1400大幅面掩膜版制作激光光刻机信息由德国海德堡仪器/Stella International/光映国际为您提供，如您想了解更多关于德国海德堡 VPG+800/VPG+1400大幅面掩膜版制作激光光刻机报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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