技术参数:
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● 采用节约环保设计理念,采用比阻抗控制技术,来抑制超纯水中静电的发生。
● 用于半导体制造和FPD制造、晶元(芯片)切割工序的比阻抗优化控制,防止静电破坏和微粒子的附着。
● 先进的电阻率控制技术可以消除高纯度水中的静电充电。
● 在半导体行业的切割工序或FPD的高压清洗工序中,可以控制冲洗水的电阻率在最佳状态。
● 可以预防由静电放电或静电吸引引起的器件破损和颗粒粘附,从而显著提高产品的良率。
主要特点:
● 可根据用途选择相应机型 ● 装机容易
● 全机型内置阻抗探头,配管简便。
● 大水量,压力损失小
水量为3000L/h时,压力损失为0.06MPa
● 操作简便,控制精度高
只需输入所需阻抗值,即可进行±0.03MΩ/cm的精确控制。
● 可在高水压环境下运行,工作压力为0.5MPa,可灵活配置。
● 水量变动响应速度快
即使水量发生大幅变化,也能快速调整控制。
● 经济环保
不需要Co2溶解膜等昂贵的消耗品,也不需要排放Co2排气和废水
● 双氧水杀菌处理
可使用3%双氧水进行杀菌处理,无需担心细菌滋生。
N4R/N4C系列 超纯水防静电装置纯水器亚速旺, N4R-1.0-50
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