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M系列光束笔尖阵列光刻系统(TERA print)

北京培科创新技术有限公司

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聚合物笔无掩模光刻纳米制造系统(polymer pen lithography)聚合物笔纳米无掩模光刻制造系统PPL, 使用可达160000笔尖的阵列,采用蘸笔光刻DPN的方式,将待沉积的材料(墨水)浸蘸在笔尖阵列上,笔尖可控的与基底表面接触,从而在基底表面批量成型所需图案,加工纳米微米图案无需光掩膜,且在平方厘米范围内达到200纳米以下的分辨率,可应用于纳米粒子合成,蛋白阵列,单细胞排布,纳米电路构造、生物芯片、化学检测、微尺度催化反应、分子马达等领域。此设备在国际上属于首个基于聚合物笔光刻(PPL)技术的纳米制造系统,PPL技术是美国Tera-print公司独有的技术。

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