Neocera脉冲电子束沉积系统 Pioneer 180 PED System

产品简介
脉冲电子束沉积（Pulsed Electron Deposition）系统具有以下特点：
- 发射高能脉冲（100ns）电子束（约1000A,15keV），可以在靶材上穿透将近1um，使靶材快速蒸发形成等离子体。
- 靶材上的非平衡提取（烧灼）能使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。
- 在最佳条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜可以保持一致。
- 所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用PED技术沉积各自的薄膜。
系统的特点包括：
- 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统PED。
- 外延薄膜沉积，多层异质结构（heterostructures）与超晶格。
- 升级选项：离子辅助PED、连续组份沉积PED、进样系统load-lock。
- 可附加的沉积源：脉冲激光与射频/直流溅射。
PED沉积的代表性材料示例有：
- 高温超导（HTS）YBCO（和GdBCO）薄膜。
- 顺电（Ba-SrTiO3）薄膜。
- 金属氧化物（SrRuO3）薄膜。
- 隔热/音玻璃（SiO2）膜和Al2O3膜。
- 聚四氟乙烯（PTFE）薄膜。
系统的技术指标包括：
- 真空腔18"直径的球形腔体，8"CF窗口，6.75"CF PED源窗口，3个6"CF窗和额外的2.75"与1.33"CF窗口。
- PED源电子枪的能量范围是8-20keV，脉冲能量范围是最大能量800mJ，最小能量100mJ。
- 工艺气体压强范围是3-20mTorr，工艺气体包括氧气，氮气，氩气，脉冲能量变化范围为±10%，脉冲宽度为100ns，最大重复率为10Hzat15kV，5Hzat20kV。
- 基片加热温度范围为最高850℃，基片旋转范围是1-30RPM（360°旋转），多靶材旋转台最多可容纳6个1"的靶材或3个2"的靶材等。
系统的控制软件是Windows 7，LabVIEW 2013。PED系统还可配备外部的PED源触发器和真空泵干泵、涡轮分子泵等。

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