Neocera脉冲电子沉积(PED)Pioneer 180 PED System

产品简介脉冲电子束沉积（Pulsed Electron Deposition）系统能够发射高能脉冲（100纳秒）电子束（约1000A, 15千电子伏）在靶材上穿透将近1微米，使靶材快速蒸发形成等离子体。非平衡的提取（烧灼）能够使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最佳条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜可以保持一致。所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用PED技术沉积各自的薄膜。
产品特点
*独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统PED
*外延薄膜沉积，多层异质结构（heterostructures）与超晶格
*氧化物薄膜沉积时氧气兼容
*升级选项：离子辅助PED，连续组份沉积PED，进样系统load-lock
*可附加的沉积源：脉冲激光与射频/直流溅射
*集成XPS/ARPES UHV集群系统，原位高真空基片传送系统
脉冲电子束沉积系统PED沉积的代表性材料示例
*高温超导（HTS）YBCO（和GdBCO）薄膜
*顺电（Ba-SrTiO3）薄膜
*金属氧化物（SrRuO3）薄膜
*隔热/音玻璃（SiO2）膜和Al2O3膜
*聚四氟乙烯（PTFE）薄膜
技术指标
真空腔
18"直径的球形腔体8"CF窗口6.75"CF PED源窗口3个6"CF窗额外的2.75"与1.33"CF窗口
PED源电子枪能量：8-20千电子伏脉冲能量：最大能量800毫焦，最小能量100毫焦工艺气体压强：3-20毫图工艺气体：氧气，氮气，氩气脉冲能量变化：±10%脉冲宽度：100纳秒最大重复率：15千赫兹，20千伏时5千赫兹最小束截面：8x10-2平方厘米最大能量密度：1.3x108瓦/平方厘米Z向对准范围：50毫米XY向对准范伟：+/-20毫米火花塞寿命：~3x10^7脉冲基片加热器最大直径2",最小10x10平方毫米最高温度：850℃基片旋转：1-30转每分钟（360°旋转）基片加热器：兼容1个大气压的氧压加热器温度通过可编程的PID控制还有多靶材旋转台6个1"的靶材或3个2"的靶材靶材旋转：360°连续旋转（1-20转每分钟）靶材栅格式扫描独特的靶材栅格化烧蚀方案靶材索引，镀多层薄膜靶材高度可调靶材挡板避免靶材间的交叉污染提供连续组成扩展/组合PED的能力PED系统软件：Windows 7, LabVIEW 2013控制：基片加热台控制、靶材公转台控制、真空泵控制、质量流量计
外部的PED源触发器
可选的工艺自动化选项
真空泵：干泵，涡轮分子泵本底真空压强：标准配置8x10-8Torr涡轮分子泵转速由软件控制

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