产品介绍
随着二维材料研究的蓬勃发展，其材料性能及器件工作机制都与传统半导体材料和器件有很大差异，光电流成像显微系统成为研究材料性能和检测材料光电流强度分布的重要设备，既可以用于测量光电材料的光电响应信号，又可以表征材料的光电性质。
托托科技致力于开发具有高性能、高稳定性和高灵活度的微区光电流成像显微系统，系统采用双层平台机构，空间大，提供更多组合可能性，可搭配激光合束模组、高精度XY运动台、电磁场系统、低温恒温系统、锁相放大器、光谱仪系统等。系统兼容磁场、电场、低温，实现对二维材料磁、光、电、温度的调制。我们提供完整的NI Labview控制程序以方便用户的使用。软件包将所有系统中的测试设备统一控制，可以实现四种变量任意组合的光电流测试，即可以一次性测量不同变量下的光电流信号。
系统结构图
增强版系统外观如下，各个产品应客户要求，略有区别。
产品亮点
1、超宽谱激光兼容
2、高精度XY运动台
3、光路准直共路
4、可搭配源表/探针台
5、可搭配光谱仪系统/探测器
6、高稳定性，操作便捷
扫描数据参考
Bi2Se3薄膜的光电流扫描数据 WTe2薄膜的光电流映射数据 (Nat. Comm. 9, 2492 (2018)) (Nano Lett. 19, 2647 (2019))
系统升级选项
1、搭配低温恒温系统 (5k -500k)
2、时间分辨光电流
3、荧光测试功能
4、磁场整合
关键技术指标(TTT-03-PC)
成像系统 | 显微镜 | Carl Zeiss 正置式显微镜 |
照明光源 | LED照明光源 | |
物镜 | 5X、20X、100X，可选配多种倍率、超长焦距物镜 | |
反射式物镜，覆盖全波段 | ||
相机 | 彩色CMOS相机 (1920*1080 像素) | |
激光耦合输入 | 常规波长范围 | 400 ~ 2000 nm (典型可见光：405nm、473nm、532nm、671nm， 近红外：808nm、1064nm、1342nm、1550nm、1950nm) |
可选波长 | 中红外激光器：4um-12um，间隔1um | |
其他选配光源 | 可选配光纤接口，支持光纤导入准直激光 | |
装配类型 | 单个激光器，或者激光合束模组(支持四个激光器准直共路) | |
扫描平台 | 位移台类型 | 高负载、高精度XY运动台，直线驱动，闭环反馈 |
扫描范围 | 100mm*100mm | |
扫描精度 | 50nm | |
双向可重复性 | ±0.5um | |
广泛测试环境 | Keithley 2400或用户需求 | |
可选配探针台或者PCB板连接源表，提供电压输入及探测 | ||
可搭配电磁铁、低温恒温系统 | ||
可选配锁相放大器、斩波器 | ||
可搭配光谱仪系统、各种探测器等检测设备 | ||
其他参数 | 软件 | 基于labview的全自动软件 |
设备尺寸 | 140 cm * 100cm * 170cm | |
附属配件 | 光学平台、电脑、无线鼠标 | |
备注:
1、订购时指定激光类型。
2、设备可配置多种电学仪表。
安装要求
温度 | 20 – 40℃ | 湿度 | RH< 60 % |
电源 | 220 V, 50 Hz |
应用实例
系统的典型应用包括但不限于：
1、表征自旋累积、自旋寿命
2、表征光电流
3、表征反射谱
微区光电流成像显微系统 TTT-03-PC, TTT-03-PC
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