上海纳滕高精度电子束曝光系统 具有超高书写精度特点
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
ELS-F125具有以下优点：
l 超高书写精度
- 5 nm 线宽精度 @ 125 kV
- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应最小化 @ 125 kV
l 高通量、均匀性好
- 超大视野书写:500um视场下10 nm线宽
- 高束流下电子束直径依然很小，高通量而不影响分辨率，2 nm 电子束直径@ 1 nA
l 界面用户友好
基于Windows系统的CAD和SEM界面:
-简单易用的图案设计功能
-易于控制的电子束条件
二、主要功能
l 主要应用
纳米器件的微结构
集成光学器件，如光栅，光子晶体等
NEMS结构，复杂精细结构
光刻掩模板，压印模板
l 技术能力
三、应用
上海纳腾高精度电子束曝光系统 具有超高书写精度特点,ELS-F125/F100/HS50
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