物理气相沉积(PVD)NSC-1000 磁控溅射系统 NSC-1000 应用于电子/半导体(那诺-马斯特)

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磁控溅射系统：带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达到到8“旋转平台，支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10^-7 Torr，15分钟内可以达到10^-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

·         不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔

·         70l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵

·         1KW DC直流电源

·         晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

·         带观察视窗的腔门易于上下载片

·         基于LabView软件的PC计算机控制

·         带密码保护功能的多级访问控制

·         完全的安全联锁功能

选配项：

·         Thickness Monitor   膜厚监测

应用：

·         SEM应用

·         溅射金属，可达6"的晶圆片

NSC-1000磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达6"旋转平台，支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10^-7 Torr，15分钟内可以达到10^-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-1000带有10”派热克钟罩腔体，2个2”的磁控管，DC直流电源用于溅射金属，并带有膜厚监测仪(选配)。由于NSC-1000的空间有限，我们不能在NSC-1000系统上提供更多的电源和磁控管。我们可以提供我们的NSC-1000系统，用于SEM应用，也可以用于溅射金属到z大6”的晶圆片。

NSC-1000磁控溅射系统产品特点：

物理气相沉积(PVD)NSC-1000 磁控溅射系统 NSC-1000 应用于电子/半导体, NSC-1000

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