阿拉丁高纯试剂性能及应用

阿拉丁公司作为一家高新技术企业，拥有一流的技术力量，具有强大的产品研发能力，每年研发出数百种新产品投入市场。公司核心技术包括离子对色谱级产品制备工艺技术，高纯产品超声波提纯技术、超纯产品分级冷冻结晶提纯技术、无水级试剂产品制造技术等。目前公司拥有 30000 余种产品，超过 50% 为专有产品。

迄今为止，阿拉丁共申请国家专利 39 项，获正式授权 18 项。其高纯试剂主要包括纯度为99.99%-99.9999%试剂、光谱纯试剂、色谱纯试剂，其中部分高纯试剂生产技术已相当成熟,。此次主要为大家推荐我们的99.99%-99.9999%的高纯试剂，此部分产品可以满足大家的特殊需求。

高纯试剂定义

纯度远高于优级纯的试剂叫做高纯试剂。是在通用试剂基础上发展起来的，是为了专门的使用目的而用特殊方法生产的纯度最高的试剂。高纯试剂控制的是杂质项含量，基准试剂控制的是主含量，基准试剂可用标准溶液的配制，但高纯试剂不能用于标准溶液的配制（单质氧化物除外）。

目前高纯试剂可简单分为以下几类:

1. 纯度99.99%（简写为4N）、99.999%（简写为5N）、99.9999%（简写为6N）；

2. 光谱纯；

3. 电子工业用；

4. 萤光纯；

5. 色谱纯；

6. 分光纯；

7. 原子吸收纯。

高纯试剂纯度的定义

1. 纯度是由100% 减去杂质总量计算求得的。

2. 在计算杂质总量时，通常只累计试样中存在的金属阳离子和某些非金属离子（如磷、硫、硅等）的总量，而一般不累计阴离子的总量。

3. 在累计阳离子杂质总量时，不必要也不可能求出所有阳离子的杂质总量，而通常只累计常见元素、主体的伴生元素和工艺中容易引进的元素，其数目为十多个、二十多个或三十多个不等，根据试样的情况和测试手段不同而定。

高纯试剂含量的定义

对高纯试剂来说，影响含量大小的主要因素是试样中的水分、氧、氢、碳和其他阴离子含量的大小。影响含量的因素对纯度没有任何影响。

根据用途来划分，高纯试剂还可分为以下几类：

●普通高纯试剂

是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等，常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等，金属单质的氧化物、用来配制标准溶液和作为标准物质，该类试剂常要求含量在4N-6N 之间。

●超净电子高纯纯试剂

超净高纯试剂是集成电路（IC）制造工艺中的专用化学品，用于硅片清洗、光刻、腐蚀工序中。对这种高纯试剂中可溶性杂质和固态微粒要求非常严格，为适应IC 集成度不断提高的需求，国际上半导体工业协会（SemiconductorIndustryAssociation）近来推出Semic7( 适合0.8-1.2 微米工艺技术) 和Semic8( 适合于0.2-0.6 微米工艺技术) 级别的试剂质量标准。我国在原有MOS 级、BV-I 级试剂的基础上，又制定出BV-II 级和BV-III 级试剂标准（相当于Semic7）。还研究出多种MOS 级、BV-I 级BV-II 级和部分BV-III 级试剂，其颗粒度（0.5 微粒颗粒）≤ 25-100 个∕ ml，金属杂质总量≤ 10-3—10-5 ﹪。

●光刻胶高纯试剂

光刻工艺是一种表面加工技术，在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要地位。为在表面实现选择性腐蚀，采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层，称为抗蚀剂，国内通称光刻胶。按照溶解度的不同而将光刻胶分为“正性”光刻胶和“负性”光刻胶，按所用曝光光源和辐射光源的不同，又可将其分为紫外、远紫外、电子束、X 射线等光刻胶。光刻胶是微细图形加工的一种关键试剂，要求水分低、金属杂质含量低（≤ 10-6）

●磨抛光高纯试剂

是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉（三氧化二铝）和磨液（水和油剂），能研磨表面达到微米级加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小（纳米），纯度高，金属杂质一般要求2.0×10-4—5×10-5 ﹪。

●液晶高纯试剂

液晶是一类电子化学材料，是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性，有时人称他为第四态。液晶种类繁多，用途最广，前景最大的要属TN( 低档)、STN（中高档）、TFT（高档）型。TN、STN 及TFT 三种型号所组成的单体液晶，主要包括芳香酯类、联苯类、苯基环已烷类、铁电类以及含氟液晶品等五种，它们是当今及今后使用及发展的主要对象。这类高纯试剂要求含量高（≥ 99 ﹪），水分含量低（≤ 10-6），金属杂质含量少（≤ 10-6）。借助液晶独特的光、电子特性可以用于检查飞机、人选卫星等装置上的缺陷，在医学上用来诊断癌症、结核等病症。

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