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产品简介
脉冲电子束沉积(Pulsed Electron Deposition)系统能发射高能脉冲(100ns) 电子束( 约1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近1 um,使靶材快速蒸发形成等离子体。在靶材上的非平衡提取(烧灼)能使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最佳条件下,靶材的化学计量与沉积薄膜可以保持一致。所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用PED 技术沉积各自的薄膜。
产品特点
* 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统PED* 外延薄膜沉积,多层异质结构(heterostructures)与超晶格* 氧化物薄膜沉积时氧气兼容* 升级选项:离子辅助PED, 连续组份沉积PED, 进样系统load-lock* 可附加的沉积源:脉冲激光与射频/ 直流溅射* 集成XPS/ARPES UHV 集群系统,原位高真空基片传送系统
脉冲电子束沉积系统PED沉积的代表性材料示例* 高温超导(HTS) YBCO( 和GdBCO) 薄膜* 顺电(Ba-SrTiO3) 薄膜* 金属氧化物(SrRuO3) 薄膜* 隔热/ 音玻璃(SiO2) 膜和Al2O3 膜* 聚四氟乙烯(PTFE) 薄膜
技术指标
脉冲电子束沉积系统 Pioneer 180 PED System,Pioneer 180 PED System
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