技术参数:
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● 采用节能环保设计理念,采用阻抗控制技术,有效抑制超纯水中的静电产生。
● 在半导体制造和FPD制造、晶元(芯片)切割工序中,用于优化控制超纯水的阻抗,防止静电破坏和微粒附着。
● 先进的电阻控制技术可消除高纯水中的静电荷。
● 可在半导体行业的切片工序或FPD的高压洗涤工序中控制清洗水的电阻率。
● 可避免因静电放电或颗粒吸附而导致设备损坏,并大大提高产品的良率。主要特点:
● 可根据需求选择相应型号,安装简便。
● 全系列产品均配备阻抗探头,管路布置方便。
● 大流量,压力损失小,当水量为3000升/小时时,压力损失仅0.06兆帕。
● 操作简便,控制精度高,开机后只需设定所需阻抗值,即可精确控制在±0.03兆欧/厘米。
● 可在高水压环境下运行,压力可达0.5兆帕,可灵活配置不同工艺。
● 水量变化响应迅速,即使水量发生较大变化也能快速调整控制。
● 经济环保,无需昂贵的消耗品如Co2溶解膜等传统设备,也无需排放Co2和废水。
● 支持过氧化氢消毒处理,使用3%过氧化氢可进行杀菌,无需担心细菌繁殖。
N4R-1.0-50纯水器 N4R/N4C系列 超纯水防静电装置, N4R-1.0-50
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