直写光刻
小型台式无掩膜光刻系统 小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。 传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需......
四轴飞秒激光直写系统Spearay-4Axis 系统是针对管状材料精密切割设计的，利用一维高精度旋转轴、两维扫描振 镜、三维XYZ 精密定位系统，结合超快激光微加工特点，能够实现薄壁管材的精密切割、保持表面完整性的表面标刻、和功能性超表面处理。 主要应用• 心血管支架加工• 玻璃管等管状样品切割• 柱状曲面加工配置参数：• 扫描振镜（用于激光划切）......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3，符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 小型台式无掩膜光刻系统&nbs......
Quantum Design小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3，符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 小型台式无掩膜光刻系......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3参考多项行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。完成MoS2、Cr2S3的检测。可以用在电子/半导体行业领域中的无掩膜光刻直写项目。......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3可用于测定MoS2、Cr2S3，适用于无掩膜光刻直写项目。并且参考多项行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。可应用于电子/半导体行......
DWL 66+激光光刻工具是一款高分辨率直写图案生成器。作为一款全能型产品，DWL 66+非常适合微电子、MEMS、微流体、传感器、非标准基板、先进封装等领域的研发，几乎适用于任何需要微结构制造的学术应用。DWL 66+以其灰度曝光模式脱颖而出，该模式可创建复杂的2.5D微结构，如移动应用的微光学、衍射光学元件（DOE）、计算机生成的全息图和结构化表面。它是......
中文名：Aldrich® 负光刻胶套装 I英文名：Aldrich® Negative Photoresist Kit I货号：A487434存储温度：2-8°C储存产品介绍：Aldrich®负性光致抗蚀剂套装I由用于光蚀刻的材料组成。该光致抗蚀剂可旋涂于玻璃基质上以形成电极阵列。该套装还可用于在玻璃表面上进行掩膜和成像。应用查看阿拉丁官网此产品相关对应页面：......
详细介绍上海麦科威MKW-200是一个高价值的激光直写光刻机，面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西，从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型，集成相机可以用来调整现有的功能写。我们对其进行了优化，以便于使用和简单维护，最大限度地利用现成的部件，而不牺牲书写质量或功能。直接激光......