镀膜机收集器
馏分收集器 FT/F货号： VF-F10-A-01在保持多功能性的同时实现兼容性：赛默飞馏分收集器 FT/F 平台可对各种样品类型（包括蛋白质和活性药物化合物）执行 UHPLC 和 HPLC 纯化，并与赛默飞Vanquish™ UHPLC 系统和赛默飞 UltiMate™ 3000 HPLC 和 UHPLC 系统完全兼容。概述可靠灵活的馏分收集馏分......
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD可用于测定Power Semiconductors，适用于Power Semiconductors项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于纳米材料行业领域。 失效分析 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100......
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD用于测定Power Semiconductors，符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 失效分析 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中，采用中央机械......
ÄKTA™ pure micro 推荐和组分收集器F9-T搭配使用。 组分收集器 F9-T 能够放置两个多孔收集板，使用微量收集多孔板时，可将收集板放置于微 量收集板架上。 微量收集滴头能够产生微小液体，实现微量体积分装收集。 滴同步功能（Drop sync）能够在换管收集时防止样品液体溅出。 ......
点击查看下载徕卡镀膜机Leica EM ACE600 样本相关资料，进一步了解产品。 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的多种镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。 Improve sample preparation by optimal coating高真空镀膜机 Leica EM ACE600......
德国 镀膜仪 EM ACE200镀膜机徕卡 标准有特定规范与标准，应用于其他生命科学行业领域。点击查看相关规范标准。 徕卡电镜制样流程 Leica Vienna -Since 1876 低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更......
点击查看下载德国 镀膜仪 EM ACE200镀膜机徕卡 样本相关资料，进一步了解产品。 徕卡全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的多种镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂、冷冻镀膜。 低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过......
NFC 是最新的一代层析组分收集器，用于层析实验分离后的样品收集。该收集器支持最大流速200ml/min下的收集，同时满足多种收集容器从96孔板到各种试管试剂瓶以无限制体积收集在同一运行方法下的混合收集。此外，可选配Peltier制冷功能，以及自动校准功能，为样品的收集提供稳定的环境和安全保障。......
LeicaEMACE600 高真空镀膜机通过最佳涂层改善样品制备。LeicaEMACE600 是为TEM和FE-SEM分析而设计的最高分辨率的多功能高真空薄膜沉积系统。它被设计用来生产非常薄、细致和导电的金属和碳涂层，以用于最高分辨率的分析，以满足您的FE-SEM和TEM应用需求。该高真空镀膜机可使用溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电进行配置。L......