沈阳原子层沉积系统

牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统

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牛津仪器 原子层沉积系统(ALD)

型号: 牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统

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OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积(ALD)设备,带有等离子选项适用于小尺寸至200mm的晶圆片蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体实时检测选项,包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪ALD产品家族涵......

OpAL系统是一种直立式热原子层沉积(ALD)设备,配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD,在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积(ALD)设备,带有等离子体选项,适用于直径小至200mm的晶圆。它可以实时监测四种液体或固体前驱体的蒸气吸取或鼓泡,包括与ALD控制软件相连的光谱椭偏仪。OpAL系统可通过简......

OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积(ALD)设备,具有等离子体选项。它可以升级为等离子体ALD,这样就可以在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。这款紧凑型直接开放式热原子层沉积(ALD)设备,带有等离子体选项,适用于小尺寸至200mm的晶圆片。它可以实时检测蒸汽吸收或鼓泡四种液体或固体前驱体,并且可以与ALD控制软件联接的光谱椭偏仪。OpAL系......

THEIA 超快平面原子层沉积系统(ALD)是一款高性能、稳定、灵活、可靠且安全的研发型设备,具备工业生产解决方案的优势。THEIA 可以进行升级改造,以满足科学研究的各种需求,实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。产品规格1. 专利技术 SMFD-ALD 超快沉积速度:12-30nm/min2. 低维护周期:平均每50μm沉积后维护一次3. 专利阀门:可实现......

PANDORA 多功能台式原子层沉积系统是一种卓越的研发工具,结合了粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术,可轻松在粉末和平面样品之间切换,而不影响研究效率。产品规格如下:1. 前驱体通道:3-6连续流/静态流兼容3. 反应腔:100ml粉末腔/10×10cm平面4. 反应腔结构:旋转式5. 反应腔温度:最高200℃6. 配件:In-situQCM,等离......

PANDORA 多功能台式原子层沉积系统是一种高效的研发工具,将粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术结合在一起。该系统具有旋转式反应腔,可用于粉末样品的分散,同时也支持快速切换平面样品。PANDORA 设有在线分析系统,可以实时监测前驱体和副产物,帮助改良沉积工艺。此外,石英微天平可以实时监测材料的质量变化,帮助研究者获得更高质量的薄膜。系统符合 cG......

PANDORA 多功能台式原子层沉积系统,让很多人相信,潘多拉的魔盒里埋藏着尚未开发的宝物——希望!这台工具结合了粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术,是独一无二的高效研发工具。使用者可以轻松地在粉末和平面样品之间切换,而不用担心影响研究效率。产品规格1. 前驱体通道:3-62. 连续流/静态流兼容3. 反应腔:100ml粉末腔/10×10cm平面4.......

PROMETHEUS流化床原子层沉积系统粉末包覆能够有效增强材料性能和使用寿命,特别是锂电池的正极或负极材料。经过表面包覆处理后,放电性能和循环使用寿命都有显著提升。然而,目前工业上主要采用机械混合的干法进行包覆,导致包覆均匀性较差,性能提升有限。ALD技术能够实现高精度和均匀包覆,是理想的包覆手段。ForgeNano采用流化床技术来处理粉末类材料,以确保前......

PROMETHEUS流化床原子层沉积系统可以提高材料性能和使用寿命,特别适用于锂电池的正极或负极材料。目前工业上常用的包覆方法是机械混合的干法,但这种方法无法实现均匀包覆并且性能提升有限。ALD技术能够实现高精度均匀包覆,是一个理想的包覆手段。 ForgeNano针对粉末类材料比表面积大的特点,采用流化床技术实现粉末材料的流化,从而保证前驱体与粉末充分接触。......

PROMETHEUS流化床原子层沉积系统,粉末包覆可显著提高材料性能和使用寿命,尤其是锂电池的正负极材料。目前工业采用的机械混合干法包覆存在均匀性差和性能提升有限的问题。ALD技术可以实现高精度和均匀包覆,是理想的包覆手段。ForgeNano利用流化床技术确保粉末材料的流化,从而保证前驱体与粉末充分接触。P系列是ForgeNano专为工业包覆研发的粉末ALD......

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