二硫化钼

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滑动式二硫化钼CVD制备设备 滑动式二硫化钼CVD制备设备一、 滑动式二硫化钼CVD制备设备概述硫粉预热器采用管内测控温以保证在250℃以下,稳定控制硫蒸汽的蒸发时机和蒸发温度。真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。采用耐腐蚀电阻电容复合真空计(在1000Pa以上测量不受气体种类影响,耐......

滑动式二硫化钼CVD制备设备概述:硫粉预热器采用管内测控温以保证在250℃以下,稳定控制硫蒸汽的蒸发时机和蒸发温度。真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。采用耐腐蚀电阻电容复合真空计(在1000Pa以上测量不受气体种类影响,耐硫蒸气腐蚀),通过调节真空蝶阀的开启程度调节炉管内压力稳定,在1200℃以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维......

仪器组成:由HCVD-1200S双温区管式炉,HTF400C硫粉预热器(双温区管式炉与预热器可滑动),质量流量计供气系统,机械式真空泵等组成。滑动式二硫化钼CVD制备设备主要技术参数硫粉预热器 型号:HTF-400C工作温度:350℃MAX温度:400℃MAX升温速率:30℃/min推荐升温速率:10℃/min控温方式:智能化30段可编程控制工作电......

CVD是一种常见的制造工艺,它广泛应用于各种领域,包括半导体、太阳能电池、涂层、纳米技术、医学等。CVD设备是这种制造工艺的关键设备之一。它利用化学反应将气体沉积在基板上,形成需要的材料,如硅、氮化物、氧化物等。CVD设备通常由加热室、气体输送系统和反应室等组成。滑动式二硫化钼CVD制备设备主要技术参数硫粉预热器 型号:HTF-400C工作温度:3......

滑动式二硫化钼CVD制备设备主要技术参数硫粉预热器 型号:HTF-400C工作温度:350℃MAX温度:400℃MAX升温速率:30℃/min推荐升温速率:10℃/min控温方式:智能化30段可编程控制工作电压:AC220 V额定功率:800W控温精度:±1℃加热元件:电阻丝  双温区硫化炉 型号:HCVD-1200S......

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等离子体修饰系统

参考成交价格: 暂无

泽攸科技 化学气相沉积(CVD)

型号:等离子体修饰系统

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等离子体修饰系统,利用卓聚自创的三温区管式炉,通过氧气辅助化学气相沉积技术,在蓝宝石衬底上外延生长了大尺寸、高质量的单层二硫化钼薄膜。在生长过程中引入氧气,不仅能够有效的阻止三氧化钼源中毒,降低形核密度,而且还能减小硫空位密度,从而实现了大尺寸单晶单层二硫化钼的生长。等离子体修饰系统,利用卓聚自创的三温区管式炉,通过氧气辅助化学气相沉积技术,在蓝宝石衬底上外......

乐研试剂:致力于为医药研发提供高品质化学试剂服务。纳米二硫化钼, ≥99.5%,100nmCAS No. :1317-33-5产品编号:1692004英文名称:Nanometer molybdenum sulfide, ≥ 99.5%, 100nm库存:现货供应,每天17:30前截单,当天发货,免运费纯度:99.5%,100nm分子式:MoS2分子量:160......

乐研试剂:致力于为医药研发提供高品质化学试剂服务。4-溴-1-(3-氟苯基)-1H-吡唑CAS No. :1353856-11-7产品编号:1503529英文名称:4-Bromo-1-(3-fluorophenyl)-1H-pyrazole库存:现货供应,每天17:30前截单,当天发货,免运费纯度:97%分子式:C9H6BrFN2分子量:241.06存储条件......

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