无掩膜光刻机

小型台式无掩膜光刻系统 小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。   传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需......

DMD无掩膜光刻机

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昊量光电 光学仪器组件

型号:Aunion_Maskless_Photo_Lithography_PALET

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产品简介 DMD无掩膜光刻机高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机! AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范围、低价格、高分辨率、操作简单和可靠性高等特点。DMD式无掩膜光刻机无需制造掩膜,采用DMD数字掩膜,可在抗蚀剂内曝光所希望的任意图案。无掩膜光刻机可以读取任何CAD数据,除此之外DMD式无掩膜光刻机......

DMD无掩模光刻机 DMD无掩模光刻机 SmartPrint UV SystemDMD无掩模光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光刻设备,可兼容多种光刻胶和基材。SMART PRINT UV可以生产任何微米分辨率的二维形状,而不需要硬掩模。基于改进后的标准投影技术,投影出具有微米分辨率的图......

Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3可用于测定MoS2、Cr2S3,适用于无掩膜光刻直写项目。并且参考多项行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。可应用于电子/半导体行......

Quantum Design小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3,符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 小型台式无掩膜光刻系......

Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3参考多项行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。完成MoS2、Cr2S3的检测。可以用在电子/半导体行业领域中的无掩膜光刻直写项目。......

Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3,符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 Microwriter ML3......

一、美国NXQ紫外掩膜光刻机产品概述:NXQ MASK ALIGNER光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,NXQ4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,稳定的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用。二、美国NXQ紫外掩膜光刻机技术参数:1、芯......

DaLI系列无掩膜纳米光刻机DaLI无掩膜纳米光刻机是一款采用亚纳米精度激光操控技术为核心的超稳定,桌面型,高精度,高速激光直写设备。其核心技术已经在在亚纳米级精度要求的仪器设备中经过十几年的应用检验。超高精度,和超高稳定性是DaLI无掩膜纳米光刻机实现高性能的基础。        miDALIX的核心技术源于Ares......

武汉月忆紫外掩膜光刻机其它实验室常用设备 紫外掩膜光刻机 .pdf有特定规范与标准,应用于汽车/铁路/船舶行业领域。点击查看相关规范标准。 一、URE-2000/35紫外掩膜光刻机产品特征:URE-2000/35采用自动找平,具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能,自动分离对准间隙和消除 曝光间隙,采用 350W 进口(德国)直流汞灯......

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