广州切片抛光液

PLANERLITE系列化学机械抛光（CMP）专用抛光液 PLANERLITE系列抛光液是专门设计用于化学机械抛光（CMP）的抛光液，是制造超大规模集成电路（ULSI）电子器件的关键工艺技术。 PLANERLITE-4000系列：这款抛光液主要用于SiO2薄膜（内层介质，STI）。基于超高纯度的硅胶......

树脂镜片抛光液

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FUJIMI 玻璃/石英制品

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POLIPLA 系列抛光液为一种复合型的抛光液，适用于树酯镜片的抛光，其中磨料比例与硬度的适当配合，在大大提高功效的同时，可以完全保障镜片表面的高度光洁。　Type ......

Glaster®抛光液

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美国pelco 金属材料制样用品

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适合对玻璃、金/银、陶瓷等表面进行柔性清洗。产品编号描述单位 893-40 Glaster® 清洗抛光液， 300 g 瓶 ......

S7154 不锈钢光亮剂(油性)

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芯硅谷铝箔

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微谱第三方检测机构不锈钢电解抛光油配方破解抛光液成分分析

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微谱石油能源检测

型号：不锈钢电解抛光油配方破解抛光液成分分析

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化学机械抛光液研发

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微谱材料分析检测

型号：化学机械抛光液研发

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化学机械抛光 21世纪随着机械加工业的飞速发展，工件的表面平整度需要越来越高。化学机械抛光技术（CMP）则从加工性能和速度上同时满足工件加工要求。国内的化学机械抛光（CMP）所需要的抛光液、抛光垫和抛光设备主要是国外生产，抛光材料的国产化有一定的难度。其中CMP抛光液的需求量最大，国产化极为迫切。化学机械抛光（CMP）是工件的表面与抛光......

贝拓纳米粒度及Zeta电位分析仪DLS100 用于磨料、化学机械抛光液

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贝拓科学激光粒度仪、纳米粒度仪

型号：DLS100

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纳米粒度及Zeta电位分析仪DLS100是集成纳米胶体溶液的颗粒粒度，及其Zeta电位分析的高性能光学检测装置。Zeta电位纳米粒度仪DLS100的原理分别是：动态光散射（Dynamic Light Scattering，DLS）技术，与电泳光散射（Electrophoretic Light Scattering, ELS）技术。应用上述技术，可以实时、准确......

厂商新闻

谈谈玻璃薄膜固体材料折射率的测定方法—固体专用阿贝折射仪的应用化学试剂折光率测定通用方法

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水龙头重金属析出量限值及其检测方案水龙头重金属析出量限值及其检测方案

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