透射电镜使用电子穿透样品成像,实际上入射电子在穿越样品时会与样品发生复杂的相互作用,如果使用全部的透射电子成像,必然在细节上出现假象、失真甚至某些信息被掩盖。JEM-2200FS采用欧米伽能量过滤器,让透过电子穿过欧米伽形状的电磁透镜系统,具有不同电子的能量将被展开,我们可以选择零损失电子成像,还可以专门突出某种原子成像,非常方便......
EM-05500TGP TEM断层扫描系统TEM断层扫描系统采用独特算法的软件,实现了从获取连续倾斜图像到三维重构整个过程的自动化。产品特点:精细的三维重构系统TEM断层扫描系统实现了从获取连续倾斜图像到三维重构整个过程的自动化。为使电子断层扫描特有的各种调整能够自动化,TEM断层扫描系统采用了独特算法的软件(Recorder、Composer和Visual......
高真空镀膜机 Leica EM ACE600您选择了用于TEM和FE-SEM分析的zei高分辨率。Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,导电的金属和碳涂层,用于zei高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于......
低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层,之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得完全可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法,徕......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm x 0.1mm 厚度溅射控制系统微......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 30mm内调节蒸镀源高纯度碳棒,直径6.15mm蒸镀控制系统微处理器控制,远程电流/电压感应;最大电流180A,程序化数字控制;提供真空安全联锁装置,配有过流保护;模拟计量真空 Atm - 0.001mb &n......
Improve sample preparation by optimal coating高真空镀膜机 Leica EM ACE600——您选择了用于TEM和FE-SEM分析的最高分辨率。Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,细的和导电的金属和碳涂层,用于最高分辨率分析。这种......
低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200——为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层,之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法,徕......
Leica EM SCD050是一套台式溅射镀膜仪,带有水冷溅射金属靶,适用于镀很厚的金属膜,在长时间溅射过程中保护敏感样品不受热损伤。应用Leica EM SCD050,不仅贵金属,非贵金属也可产生颗粒细腻的导电膜。即便工业领域应用的晶片或CD等大样品也可实现镀膜。Leica EM SCD050也提供单碳丝/多碳丝蒸发镀膜,适用于X射线微区元素分析(EDX......
Leica EM SCD005是一套台式溅射镀膜仪,可产生颗粒细腻,高质量的导电膜,主要使用一些贵金属,如金,金/钯,铱,银或铂。即便工业领域应用的晶片或CD等大样品也可实现镀膜。Leica EM SCD005也提供单碳丝/多碳丝蒸发镀膜,适用于X射线微区元素分析(EDX,WDX)时在样品表面镀导电碳膜,也适用于给带有火棉胶或formvar膜的铜网镀碳支持膜......