美国 实验炉
实验室真空高温炉设备简介美国Thermal Technology高温炉适用于各种实验室应用及小规模生产。操作简单，性能稳定。高可定制温度达3000℃。设备特点* 丰富加热原件可供选择* 高温度可达3000°C* 可实现超高真空* 可实现Ar/N2/O2/H2等多种气氛环境应用领域美国Thermal Technology高温炉可用......
美国Thermal Technology高温炉适用于各种实验室应用及小规模生产。操作简单，性能稳定。zei高可定制温度达3000℃Model 1000 石墨高温炉 zei高温度2900ºC 顶部或底部进料垂直或水平炉体惰性气体机械泵真空系统Model HTG 石墨高温炉 zei高温度2500ºC 底部进料惰性气体机械泵真空系统......
ELF实验室炉包括三个台式型号，设计用于轻载样品，最高1100°C的常规用途。 这些实验室炉有简单的下拉门和顶部安装的陶瓷烟囱。 低蓄热量保温材料和嵌在炉膛侧面自由辐射热量的螺旋式加热元件提供了有效的加热。标准参数最高工作温度1100℃炉腔体积6、14和23L下拉门，空气循环设计，确保外箱低温PID301标准控制器，单段程序控制延迟启动和定时器功能......
最高温度（℃）加热时间(mins)尺寸: 内部 高 x 宽 x 纵深 (mm)尺寸: 外部 高 x 宽 x 纵深 (mm) 高 (炉门开启时)配置体积 (L)最大功率 (W)以太网通讯接口热电偶种类重量 (kg)HTF 17/5170050158 x 150 x 225565 x 830 x 650 (850)台式54050标配B109HTF 17/1017......
LHT 高温实验室炉系列的独特之处在于设计紧凑，是研发环境中实验室的理想工具。 实验室炉的圆柱形可用空间被加热元件和隔热材料包围。加热室与水冷容器融为一体。由于体积小，LHT 非常适合用于小型样品，而且所需的操作空间也很小。 系统由一个框架平台支撑，该平台支撑着加热炉和装有软件控制装置的电子柜。支撑平台上装有脚轮，可使整个系统轻松移动。对于大学和工......
LHT 高温实验室炉系列的独特之处在于设计紧凑，是研发环境中实验室的理想工具。 实验室炉的圆柱形可用空间被加热元件和隔热材料包围。加热室与水冷容器融为一体。由于体积小，LHT 非常适合用于小型样品，而且所需的操作空间也很小。 系统由一个框架平台支撑，该平台支撑着加热炉和装有软件控制装置的电子柜。支撑平台上装有脚轮，可使整个系统轻松移动。对于大学和工......
CF16-18系列箱式炉，结合传统知识和技术的现代设计，提供高效可靠的热处理，便于更换加热元件，维护简单，最高温度1780℃。 应用领域高校、科研院所、企业等用于高温烧结、金属退火、质量检测，粉末冶金行业及义齿加工行业的烘烤、 氧化锆盘预烧结，非常适合用于金属、非金属及其他化合物材料进行烧结、熔化、分析等用途。根据加热区大小，进行小试，中试，批量生......
CFA12系列箱式气氛炉，结合传统知识和技术的现代设计，提供高效可靠的热处理，具有优秀的气氛环境以及紧凑实用性，专门用于对物料在真空状态并通一定气氛（如惰性气体等）环境下进行烧结，最高温度1200℃。 应用领域用于高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等用途，广泛的应用于材料实验室或者半导体、氮化硅等领域。根据加热区大小，进行小试，中试，批量......
CFA14系列箱式炉，结合传统知识和技术的现代设计，提供高效可靠的热处理，具有优秀的气氛环境以及紧凑实用性，专门用于对物料在真空状态并通一定气氛（如惰性气体等）环境下进行烧结，最高温度1400℃。 应用领域用于高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等用途，广泛的应用于材料实验室或者半导体、氮化硅等领域。根据加热区大小，进行小试，中试，批量生产......
CFA16-18系列箱式炉，结合传统知识和技术的现代设计，提供高效可靠的热处理，具有优秀的气氛环境以及紧凑实用性，专门用于对物料在真空状态并通一定气氛（如惰性气体等）环境下进行烧结，最高温度1780℃。 应用领域用于高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等用途，广泛的应用于材料实验室或者半导体、氮化硅等领域。根据加热区大小，进行小试，中试，批......