全自动磁控离子溅射仪是物理气相沉积的一种。实现了高速、低温、低损伤。是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。其在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳......
全自动磁控离子溅射仪在光学领域:中频闭场非平衡磁控溅射技术也应用于光学薄膜(如减反射膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域放置手套箱内,用于、易氧化需要保护的样品制备技术指标溅射电流:5-45mA工作方式:全自动磁控溅射电压:600V靶材:金、铂......
在高温超导薄膜、铁电薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池和记忆合金薄膜的研究中发挥着重要作用。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域放置手套箱内,用于易污染、易氧化需要保护的样品制备技术指标溅射电流:5-45mA工作方式:全自动磁控溅射电压:600V靶材:金、铂(标配、二......
SBC-12小型离子溅射仪产品特点:特殊密封结构,玻璃不易损坏操作方便,无需培训即可使用维护成本低,无需上门安装技术指标:真空系统两级直联旋片真空泵真空检测皮氏计真空保护配有微量充气阀,用于调节离子流的大小工作气体空气或氩气产品尺寸工作腔室:内径Ф100 x 130毫米载物台:小载物台直径Ф40毫米, 可同时放六个样品杯;大载物台直径Ф60毫米金靶尺寸:Ф5......
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技术指标工作方式:全自动磁控溅射电流:5-45mA靶材:金、铂(标配、二选一)溅射电压:600V真空泵:油封式旋片泵1L/s(可选配涡旋干泵)真空度:<1Pa产品特性本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极......
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技术指标工作方式:全自动磁控溅射电流:5-45mA靶材:金、铂(标配、二选一)溅射电压:600V真空泵:油封式旋片泵1L/s(可选配涡旋干泵)真空度:<1Pa产品特性本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极......
磁控溅射仪是一种利用物理气相沉积的方法在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)薄膜的设备,常用于扫描电镜(SEM)的样品制备以及电极制备。它可在较短时间内形成具有细粒度的均匀薄膜,最常见的靶材是金靶,所以磁控溅射仪也俗称“喷金仪”。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度......
全自动磁控离子溅射仪是一种常用的物理气相沉积(PVD)的方法,具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好,成分接近靶材成分等众多优点。传统的溅射技术的工作原理是:在高真空的条件下,入射离子(Ar+)在电场的作用下轰击靶材,使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面,沉积在基片表面形成薄膜。但是,电子会受到电场和磁场的作用,产生漂移,因而导致传......
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技术指标工作方式:全自动磁控溅射电流:5-45mA靶材:金、铂(标配、二选一)溅射电压:600V真空泵:油封式旋片泵1L/s(可选配涡旋干泵)真空度:<1Pa产品特性本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极......
被应用于装饰领域,被制成全反射及半透明膜,比如我们常用常换常买的手机壳。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技术指标工作方式:全自动磁控溅射电流:5-45mA靶材:金、铂(标配、二选一)溅射电压:600V真空泵:油封式旋片泵1L/s(可选......