小型台式无掩膜光刻系统 小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。 传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需......
产品介绍本产品为脉冲振荡前样品处理器,主要用于液体或者固体样品进行取样和均质操作时存放无菌均质袋、样品袋.采用不锈钢精工焊制而成,工艺精湛、设计独特、且坚实牢固,无明显焊点,不刮手,易清洗.产品特点● 材质:不锈钢● 颜色:银色● 表面特殊处理,可应用于各种消毒液或高温高压灭菌设备● 用于样品袋、采样袋、均质袋的储放● 国际通用,整洁有序产品规格货号品名排×......
点击查看下载液相系统LUMTECHLUMTECH 紧凑型 精工品质液相泵相关资料,进一步了解产品。 来自德国LUMTECH的精工品质液相色谱系列输送泵Calmflow Plus有着近40年制造HPLC的经验,专业HPLC溶剂输送泵,采用多项专利的精密机械工艺,高灵敏、种类丰富的检测器,为运行不同分析方法提供更多选择。 源自德国KNAUER工艺的LUMTECH......
R50电阻率测量仪FilmetricsR50系列可进行接触式四点探针(4PP)和非接触式涡流(EC)测量。R50以每秒快速1点的速度映射导电膜的电阻率/电导率。电动X-Y载物台可使用标准收益或定制制样品架,可测量300mm的样品,200mm的面积。新!R50系列四点探头和涡流探测系统可根据X-Y行程大200mm测量十年的范围导电薄层电阻和半导电膜。接触式和非......
R50电阻率测量仪FilmetricsR50系列提供接触式四点探针(4PP)和非接触式涡流(EC)测量。R50以快1点/秒的速度映射导电膜的电阻率/电导率。电动X-Y载物台使用你准缩厂收益或定制制样品架,大可测量300mm的样品,大可测量200mm的面积。新!R50系列四点探头和涡流探测系统以矩形,线性,极性和自定义配置X-Y行程大200mm测量十年的范围导......
ZML系列无掩膜光刻机机型多样化高效、灵活、高分辨率和高套刻精度特征尺寸0.5μm | 高精度步进光刻 泽攸科技 ZML 系列 DMD 无掩膜光刻机,采用先进数字微镜直写技术,无需传统掩膜版即可灵活完成任意微纳图形的精准曝光,加工精度出色、成像稳定。设备采用紧凑设计,搭配智能自动对焦与直观操作系统,上手简单、使用高效,能大幅缩短研发周期、降低制版成......