精研一体机 Leica EM TXP徕卡EM TXP 标靶面制备系统具有定点修块抛光功能,是用锯,磨,铣削,抛光样品后,供电子显微镜,和LM技术检测。带有一体化体视镜,用于精确定位及对较细微难以观察的目标位置进行样品处理时观察;使用样品旋转手柄,可以改变样品观察角度,0°-60°可调,或者垂直于样品前表面90°观察,可利用目镜刻度标尺测量距离。For res......
GPX模式配置符合您的实验室的要求,配置不同选项,拓展多样化,总有一款适合您。一体式铝铸件的设计保证了最苛刻的环境中的刚性,而其紧凑的外形设计,足以容纳在最小的实验室。一个触摸按键和一步一步的应用指南选择允许您选择预先确定的方法,和无限数量的客户设计的应用程序可以输入和存储。特征先进的碗形/排水设计特点实现自动碗冲洗更容易清理8-10英寸 (200 to 2......
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点击查看下载徕卡抛光机德国 精研一体机 EM TXP 德国 精研一体机EM TXP相关资料,进一步了解产品。 LEICA EM TXP是一款专门的可对目标区域进行精确定位的表面处理工具,非常适合于SEM,TEM及LM观察之前对样品进行切割、抛光等系列处理。它尤其适合于制备高难度样品,如需要对目标精细定位或需对肉眼难以观察的微小目标进行定点处理。有了徕卡EM ......
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点击查看下载抛光机德国 精研一体机 EM TXP徕卡 精研一体机相关资料,进一步了解产品。 LEICA EM TXP 是一款专门的可对目标区域进行精确定位的表面处理工具,非常适合于SEM,TEM及L观察之前对样品进行切割,抛光等系列处理。它尤其适合于之制备高难度样品,如果需要对目标精细定位或者对肉眼难以观察的微小目标进行定点处理。有了徕卡EM T......
Qpol 30是一款便携式的手动磨抛机。 优点便携式研磨抛光装置两个微电机的控制单元通过减速齿轮增加扭矩完美研磨 - QATM 的耗材如果使用正确的方法:知识、细心以及正确选择耗材和设备,研磨就会更加可靠、安全和高效。研磨抛光机 Qpol 30技术参数转速1000-40,000rpm,连续可调磨盘直径30 mm电压要求230 V / 50-60 H......
以最大化的可靠性制备大批量样品: Qpol XL是一款坚固、动力强劲的设备,具有独一无二的材料去除性能和优异的制样效果。拥有极为稳定的机体和磨抛头,这款设备是QATM立式磨抛机系列的成员之一。集成的力值传感器和创新的电子力控制可实现定量材料去除及超高的过程可靠性。直观的软件中可储存多达200个制备方法,并可进行专业的用户权限管理。优点工作盘直径300/350......
Qpol 300 BOT的QATM开发了一种独特且全自动的紧凑型设备,该设备自动化了整个研磨和抛光过程,包括清洁和干燥。通过触摸屏进行直观操作,最多可配备两个自主样品头,实现快速自动化的样品制备。由于其模块化设计,它可以适应个别需求。Qpol 300 BOT自动化的优势:自动化流程:研磨、抛光和清洁完全自动化。灵活介质选择:根据您的特定要求选择定制介质。高重......