设备 清洗 有效期

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MIPC1000多功能等离子清洗仪 应用于各类分析设备样品清洗专门针对SEM/TEM等各类表面/微观分析设备开发,能够有效去除样品/样品杆表面污染物,防止碳沉积带来图像分辨率降低及对样品微区成分分析造成误判,同时可改善样品表面亲水性主要应用FIB/SEM/TEM/Nano ProbeXPS/GC/SIMSSynchrotron Radiation各类真空腔体......

简介日立紫外清洗设备采用紫外光和臭氧对样品表面进行清洁,特别适用于有机污染物的去除,相较于等离子清洗更为温和,减少对样品的损伤。该设备提供两种清洗模式,并能在1分钟至24小时内灵活设置清洗时间,同时配备高效的无油真空系统和适配多种扫描电镜的样品仓,确保清洗效果与便捷操作。日立紫外清洗设备是利用紫外光和臭氧对样品表面污染物进行清理的前处理设备,主要针对样品表面......

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