日本horibadar系统
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统｡产品特点：JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间......
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统｡产品特点：JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/......
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界zei高水平的产出量和定位精度，zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。产品特点：JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界zei高水平的产出量和定位精度，zei大能......
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。 此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比优越。 利用zei细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细......
JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统JIB-4000聚焦离子束加工观察系统配置了高性能的离子镜筒(单束FIB装置)。被加速了的镓离子束经聚焦照射样品后，就能对样品表面进行SIM观察 、研磨，沉积碳和钨等材料。还可以为TEM成像制备薄膜样品，为观察样品内部制备截面样品。通过与SEM像比较，SIM像能清楚地显示出归因于晶体取向不同的电子通道衬度差异，这些都非......
JIB-4700F 双束加工观察系统随着先进材料构造的微细化和制造过程的复杂化，形貌观察、元素分析和晶体分析等的评估技术也对分辨率和精度有了更高的要求。为了满足这些需求，JEOL推出新一代双束加工观察系统JIB-4700F。 该设备的SEM镜筒中采用了超级混合圆锥形物镜、GB模式和in-lens检测器系统，在1kV低加速电压下,实现了1.6nm的保证分辨率,......
EM-05500TGP TEM断层扫描系统TEM断层扫描系统采用独特算法的软件，实现了从获取连续倾斜图像到三维重构整个过程的自动化。产品特点：精细的三维重构系统TEM断层扫描系统实现了从获取连续倾斜图像到三维重构整个过程的自动化。为使电子断层扫描特有的各种调整能够自动化，TEM断层扫描系统采用了独特算法的软件（Recorder、Composer和Visual......
产品特点：Recorder该软件能够在短时间内自动获取断层成像需要的连续倾斜图像。为了提高三维重构的精度，需要以一定的角度为步长倾转样品，并尽量获取更多的图像作为原始数据。从按照设定的步长倾斜样品开始，到倾斜过程中的飘移补偿、聚焦调整以及图像获取，都可以自动进行。 Recorder操作画面 &n......
产品特点： Composer该软件能将获取的连续倾斜图像利用计算机断层成像技术进行三维重构。电子断层成像技术的关键是图像数据的准确对齐，Composer软件通过对倾斜轴立体位置的计算和角度信息的精确分析等解决了这一难题。因此，可以在短时间内进行高精度的三维重构操作。Recorder该软件能够在短时间内自动获取断层成像需要的连续倾斜图像。为了提高三......
点击查看下载扫描电镜 双束加工观察系统日本电子 样本相关资料，进一步了解产品。 JEOL是全世界电子光学仪器发展的引领者，近年推出的一系列全新的电子光学产品性能好，稳定性强且智能化程度高，操作得心应手，是材料表征和分析的绝佳选择。 JIB-4700F 双束加工观察系统随着先进材料构造的微细化和制造过程的复杂化，形貌观察、元素分析和晶体分析等的评估技术也对分辨......