oai j500 光刻机
美国OAI成立至今已有35年历史，在光源制造和测量方面一直处于世界领先领域。 OAI光源以工作稳定，出光效率高，高均匀性和散射角小著称。且可提供20inch以上的大面积光源。 OAI光功率计在工业上有广泛应用，包括NIKON，CANON，ASM等知名光刻机制造商均使用OAI光功率计。 OAI也生产光刻机，尤其是OAI MODEL 800系列双......
美国OAI全自动上侧或后侧光刻机6000 FSA 详细介绍 型号6000 FSA用于生产的全自动，上侧或后侧光刻机 用于：半导体，MEMS，传感器，微流体，IOT，包装凭借在半导体行业40多年的制造，OAI满足了一个新的精英阶段的生产光刻设备的动态市场的日益增长的挑战。建立在着名的OAI模块化平台上，6000系列具有完全自动化的......
美国OAI光刻机 5000E 详细介绍 型号5000E大面积光刻机用于基板和显示器OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具，可为大型平板应用提供超精密，顶级，亚微米对准和分辨率。 其灵活的设计允许在各种基材（圆形或方形）上印刷高达300mm或20“×20”。 曝光系统兼容近，中，或深紫外......
800型光学正面和背面光刻机系统 OAI模型800光刻机是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供极其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大超过任何红外背后对准器性能的一个非常有竞争力的价格。通用模型800光刻机是理想的用于低产量、研发实验室和大学。模型800光刻机配置了各种各样的的OAI紫外线光源,在权力范围2千瓦。......
美国 OAI 光刻机:Model 200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model 2000 全自动边缘曝光系统,生产型Model 5000 全自动曝光机,生产型OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器，采用经过行业验证的组件，使O......
产品介绍J500全自动折光仪配备高性能线阵CCD 感光部件，通过高速、高精度的信号采集和分析处理技术，配有半导体帕尔贴超级温度控制系统。能高效、高精确测量透明、半透明、深色、粘稠状等各类液体的折射率(nD)和糖溶液的质量分数（锤度Brix）。 J500全自动折光仪拥有广泛应用以石油工业、油脂工业、制药工业、食品工业、日用化工工业、制糖工业等、也是学......
产品概述OAI 太阳光模拟器AAA 指标得到美国国家可再生能源实验室认证。40 多年来，OAI 利用其在光学技术方面的专长，为工业和研究不断生产先进产品。为了更好地为太阳能电池和模块制造商、太阳能安装商、新的太阳能初创企业和测试/ 认证实验室服务，OAI 开发了各种太阳模拟器、IV 测试仪、校准参考电池、滤波器、太阳能功率计、太阳能电池阵列测试仪、测......
OAI Model 800EModel 800E紫外掩膜光刻机NXQ 应用于纳米材料有特定规范与标准，应用于汽车/铁路/船舶行业领域。点击查看相关规范标准。 一、美国OAI公司介绍：OAI是一家位于美国硅谷的先进精密设备制造商，有着40多年的研发、制造经验。该公司生产的产品用于 MEMS、半导体、纳米技术、微流体、MicroTAS、平板和光伏/太阳能行业。......
