清洗粒子源
Features特性在低温过程中能形成高密度氧化膜。电子束激发等离子体的反应沉积，与离子辅助效应有关。活化反应蒸发（ARE）技术，促进坩埚上方的高效放电，以增强蒸发材料的电离。可选择CPPS模式、低温工艺和正常等离子模式。可以改装到现有的真空室。该等离子体源专门用于低温工艺，例如塑料基板/薄膜。真空沉积膜的薄膜质量可以通过等离子辅助沉积来降低基板的温度升高来......
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